[发明专利]电路板及其制作方法有效
申请号: | 201310106916.0 | 申请日: | 2013-03-29 |
公开(公告)号: | CN103369875B | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 江民权;李涛 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;珠海方正科技多层电路板有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K1/02 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人: | 王达佐 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种电路板及其制作方法,该制作方法包括在内层信号层的覆铜板上布设信号线;在没有信号线的区域中布设支撑部,所述支撑部与所述信号线断开且面积占据部分或全部所述区域;将布设后的图形曝光在内层信号层所在的覆铜板上;蚀刻曝光后的覆铜板;压合蚀刻后的覆铜板。利用本发明,蚀刻后的覆铜板,在信号线与支撑部之间的空隙很小,通过压合盘压合时,由于空隙小,半固化片在覆铜板的空隙之处填充的量也相应减少,从而避免半固化片的另一侧的铜箔层在空隙处下陷。压合后,另一侧的铜箔平整,光滑,无凹痕或起皱的现象。 | ||
搜索关键词: | 电路板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种电路板制作方法,其特征在于,所述方法包括:在内层信号层的覆铜板上布设信号线;计算覆铜板上没有信号线区域的面积;如果所述没有信号线区域的面积不小于设定的阈值,则在所述没有信号线的区域中布设支撑部;将布设后的图形曝光在内层信号层所在的覆铜板上;蚀刻曝光后的覆铜板;压合蚀刻后的覆铜板。
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