[发明专利]一种金属钽涂层的制备方法有效
| 申请号： | 201310078015.5 | 申请日： | 2013-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN104046942A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 陈大军;吴护林;李忠盛;张隆平;孙彩云;陈晓琴 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业第五九研究所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/32 |
| 代理公司： | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 50209 | 代理人： | 周韶红 |
| 地址： | 400039 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属钽涂层的制备方法，采用高纯度的电子束熔炼、锻造钽锭作为钽源，利用最大电流300A～600A的大功率电弧源、真空度3×10-1Pa～6×10-1Pa、脉冲负偏压200V～350V、占空比70％～90％、调节电弧源电流为175A～250A时沉积时间30min～60min条件下沉积出金属钽涂层。本发明靶材均匀烧蚀，材料利用率高，制备出的涂层成分不受污染，且无有毒污染物排出，绿色环保。本发明采用大功率电弧离子镀技术沉积难熔金属钽涂层具有沉积速率较快，涂层均匀性好、表面平整致密，界面结合好等特点，解决了难熔金属钽涂层沉积速率低、表面易开裂和结合力差等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属钽涂层的制备方法，其特征在于：选用高纯钽靶作为靶材置于真空室内，通高纯氩气，气压保持在3×10‑1Pa～6×10‑1Pa；开启电弧源，启动脉冲偏压电源，调节脉冲负偏压为200V～350V，占空比为70％～90％；引燃电弧对工件钽涂层沉积30min～60min，其中所述高纯钽靶材为电子束熔炼、锻造的钽锭，其纯度99.95%以上，所述电弧源最大电流为300～600A。
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