[发明专利]一种金属钽涂层的制备方法

权利要求书

1.一种金属钽涂层的制备方法，其特征在于：选用高纯钽靶作为靶材置于真空室内，通高纯氩气，气压保持在3×10^-1Pa～6×10^-1Pa；开启电弧源，启动脉冲偏压电源，调节脉冲负偏压为200V～350V，占空比为70％～90％；引燃电弧对工件钽涂层沉积30min～60min，

其中所述高纯钽靶材为电子束熔炼、锻造的钽锭，其纯度99.95%以上，

所述电弧源最大电流为300～600A。

2. 如权利要求1所述的金属钽涂层的制备方法，其特征在于：调节钽涂层沉积电弧源电流为175A～250A。

3. 如权利要求1或2所述的金属钽涂层的制备方法，其特征在于：所述工件与置于真空室内的所述高纯钽靶材距离130mm～160mm，真空度6×10^-3Pa以上，通入高纯氩气，使气压保持在4×10^-2Pa～6×10^-2Pa；升温至200℃～280℃，开启阴极电源，先引燃电弧、对工件加550V～800V的脉冲负偏压、调节占空比为45%～55%，再对工件表面溅射清洗60s～120s。

4. 如权利要求3所述的金属钽涂层的制备方法，其特征在于：所述工件在表面溅射清洗前经去离子水超声波清洗40min~60min后吹干、再用无水乙醇或丙酮对工件表面擦试3~5次后吹干，150℃～200℃烘干60min～240min。

5.如权利要求1至4任一项所述的金属钽涂层的制备方法，其特征在于：

工件除油清洗：将工件去离子水超声波清洗40min~60min后吹干；再用无水乙醇或丙酮对工件表面擦试3~5次后吹干，最后150℃~200℃烘干60min~240min；

工件放入真空室：工件与靶材距离130mm～160mm，抽真空至6×10^-3Pa以上，通入高纯氩气，使气压保持在4×10^-2 Pa ~ 6×10^-2Pa；

工件溅射清洗：将真空室升温至200℃～280℃，开启阴极电源，引燃电弧，对工件加550V～800V的脉冲负偏压，调节占空比45%～55%，对工件表面溅射清洗60s~120s；

工件钽涂层沉积：向真空室通入高纯氩气，使气压保持在3×10^-1Pa～6×10^-1Pa；开启电源，调节电弧源电流为175A～250A；启动脉冲偏压电源，调节脉冲负偏压为200V～350V，占空比为70％～90％；引燃电弧源进行钽涂层沉积30min～60min；

工件钽涂层沉积结束过程：关闭脉冲偏压电源和电弧源，停止高纯氩气输入，关闭高真空阀门，待工件温度降低至80℃以下后，启动放气阀，打开真空室取出工件。