[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

摘要

本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。用支承辊支撑第一处理膜（10A）并进行输送。与支承辊接近地设置有掩模（28），来自光源的光隔着掩模对第一处理膜（10A）进行照射。在掩模（28）上形成有沿宽度方向排列的多条狭缝（29）。掩模（28）具有矩形的板（28A）、形成在板（28A）的一面上的掩蔽膜（28B）以及形成在掩蔽膜（28B）上的高折射率层（28C）。高折射率层（28C）由对光源的光具有透射性并具有板（28A）的材质的折射率以上的折射率的原材料形成。

主权项

一种曝光装置，其是通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光装置，其特征在于，具备：金属制的支撑辊，其具有对表面上形成有所述光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并输送所述被支撑的可挠性料片；光源，其朝着形成在所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，对所述光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光；掩模，其以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有使来自所述光源的光通过的狭缝，所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条；矩形的板，其设置于所述掩模中，对所述光是透明的并且不具有反应性；掩蔽膜，其由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的所述支撑辊侧的面上；高折射率层，其由对所述光具有透射性并具有所述板的材质的折射率以上的折射率的原材料在所述板的形成了所述掩蔽膜的一侧以覆盖所述掩蔽膜的方式来形成。