[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其是通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光装置，其特征在于，具备：

金属制的支撑辊，其具有对表面上形成有所述光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并输送所述被支撑的可挠性料片；

光源，其朝着形成在所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，对所述光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光；

掩模，其以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有使来自所述光源的光通过的狭缝，所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条；

矩形的板，其设置于所述掩模中，对所述光是透明的并且不具有反应性；

掩蔽膜，其由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的所述支撑辊侧的面上；

高折射率层，其由对所述光具有透射性并具有所述板的材质的折射率以上的折射率的原材料在所述板的形成了所述掩蔽膜的一侧以覆盖所述掩蔽膜的方式来形成。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述光源照射的所述光是紫外线。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述板由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

4.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述金属是铬。

7.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

8.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述高折射率层是由无机材料所构成的薄膜形成的。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述无机材料是下述物质中的至少一种：BaF₂、DyF₃、GdF₃、LaF₃、NdF₂、TdF₃、YbF₃、YF₃这样的氟化物；SiO₂、SiO、Al₂O₃、HfO₂、ZrO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、In₂O₃、WO₃这样的氧化物；SiON、Si₃N₄这样的氮化物；SiC、B₄C这样的碳化物；SiO₂/Al₂O₃、Al₂O₃/Pr₆O₁₁、Al₂O₃/La₂O₃、ZrO₂/Ta₂O₅、ZrO₂/MgO、ZrO₂/Al₂O₃、TiO₂/Pr₆O₁₁、TiO₂/Al₂O₃、TiO₂/La₂O₃这样的氧化物的混合物。

10.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述高折射率层是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。