[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法。

背景技术

设置了微细图案的膜或玻璃板可以用于3D显示器等中使用的相位差板等。另外，为了提高设置了微细图案的膜的制造效率，对于可挠性料片希望以较长的状态形成微细图案。为了满足3D显示器等所要求的低成本和高品质，需要进一步提高可挠性料片上的微细图案的精度以及进一步减少图案间的边界区域的缺陷。

对含有涂布在可挠性料片上的光反应性化合物的光反应性膜照射光从而使光反应性膜反应的曝光装置是已知的。有关光反应，已经知道利用了光的液晶分子的取向以及固化等。例如，在日本特开昭63-194779号公报的曝光装置中，为了防止光反应引起的光反应性膜的褶皱，在被支撑辊支撑的部分上设定了照射光的范围。

例如，日本特开平09-274323号公报中还公开了使用配置在光源和光反应性膜之间的光掩模板而仅仅对光反应性膜的一部分照射光的曝光装置。在日本特开平09-274323号公报中记载的光掩模板上，设置了多条狭缝。多条狭缝分别沿料片的长度方向（输送方向）延伸，并在料片的宽度方向上排列。根据该曝光装置，可以在连续输送料片的同时，在光反应性膜上有效地形成所谓条纹状的曝光图案。即，该曝光图案是通过曝光而进行了光反应的线状的曝光部分、和因未曝光所以未发生光反应的线状的未曝光部分交替排列的图案。

但是，即使像日本特开平09-274323号公报中记载的曝光装置那样，用透镜或反射镜等光学体系将来自光源的光调整后通过掩模板进行曝光，灯或LED等构成的光源自身也会有分散。因此，光学体系或光掩模板无论使用多么高精度的产品，只要未使光掩模板与作为曝光对象的膜的表面密合，原理上就无法避免作为未曝光范围设定的区域也被曝光的灰雾故障。该曝光工序中的灰雾故障会成为膜上的条纹状图案间的边界区域的缺陷而显现出来。为了满足膜所要求的高品质，在曝光工序中必须尽可能地减少灰雾故障。为此，例如必须减小光掩模板与支撑辊之间的缝隙（间隙）。

另外，一般光掩模板的基板使用石英玻璃。其表面上形成遮光性的金属膜，该金属膜具有在膜的宽度方向上排列有一定间距的狭缝的图案，通过该狭缝对膜表面进行曝光。此时，如果膜的表面背面有微小的附着物、或膜上有褶皱，则膜或微小的附着物与光掩模板的金属膜接触，表面会发生污染或擦伤等问题。该问题可以通过使光掩模板离开膜表面某程度地设置而得到改善。但是，这样的话就会助长前述的灰雾故障，对于获得微细的曝光图案来说将成为很大的弊病。

发明内容

本发明的目的是提供能够在不降低生产率、不增大成本的条件下获得可以抑制灰雾故障并且能够实现掩模的保护的良好的曝光图案的曝光装置、曝光方法以及图案膜的制造方法。

本发明的曝光装置具有金属制的支撑辊、光源、掩模、矩形的板、掩蔽膜以及高折射率层，通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使光反应性膜曝光。支撑辊具有对表面上形成有所述光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并输送被支撑的可挠性料片。光源朝着形成在被支撑的可挠性料片上的光反应性膜，对光反应性膜照射具有引起光反应的性质的光。掩模以接近支撑辊的状态配置于光源和支撑辊之间。掩模具有狭缝。狭缝在可挠性料片的输送方向上延伸，并在可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条，使来自光源的光通过。板设置于掩模中，其对光是透明的并且不具有反应性。掩蔽膜由对光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于板的支撑辊侧的面上。高折射率层由对光具有透射性并具有板的材质的折射率以上的折射率的原材料在板的形成了掩蔽膜的一侧以覆盖掩蔽膜的方式来形成。

光源照射的光优选为紫外线。

板优选由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

掩蔽膜优选由金属形成。

金属优选为铬。

掩蔽膜优选是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

高折射率层优选是由无机材料所构成的薄膜形成的。