[发明专利]反应槽、处理设备以及处理方法无效

专利信息
申请号: 201310051162.3 申请日: 2013-02-16
公开(公告)号: CN103241858A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 松冈隆晴;小泉道宣;前田巖 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;张志楠
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及反应槽、处理设备以及处理方法,其目的在于提供下述的反应槽,该反应槽可简便且效率良好地除去排水中的氟、同时可长期确保透水性,进一步可简便且高回收率地对使用后的反应剂进行回收。本发明的反应槽为用于从含有氟的处理对象水中除去氟的反应槽,该反应槽的特征在于:在上述反应槽中容纳有砂和反应剂,上述砂和上述反应剂从上述反应槽的上部起依次构成第一砂层、反应剂层以及第二砂层;上述反应剂含有磷酸氢钙二水合物(A)与颗粒(B),磷酸氢钙二水合物(A)被颗粒(B)负载;上述第一砂层由有效径小于上述颗粒(B)的第一砂组成;上述第二砂层由有效径小于上述颗粒(B)的第二砂组成。
搜索关键词: 反应 处理 设备 以及 方法
【主权项】:
一种反应槽,其为用于从含有氟的处理对象水中除去氟的反应槽,该反应槽的特征在于,在上述反应槽中容纳有砂和反应剂,上述砂和上述反应剂从上述反应槽的上部起依次构成第一砂层、反应剂层以及第二砂层;上述反应剂含有磷酸氢钙二水合物(A)与颗粒(B),磷酸氢钙二水合物(A)被颗粒(B)负载;上述第一砂层由有效径小于上述颗粒(B)的第一砂组成;上述第二砂层由有效径小于上述颗粒(B)的第二砂组成。
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