[发明专利]反应槽、处理设备以及处理方法无效
| 申请号： | 201310051162.3 | 申请日： | 2013-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN103241858A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 松冈隆晴;小泉道宣;前田巖 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;张志楠 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 处理 设备 以及 方法 | ||
1.一种反应槽，其为用于从含有氟的处理对象水中除去氟的反应槽，该反应槽的特征在于，
在上述反应槽中容纳有砂和反应剂，上述砂和上述反应剂从上述反应槽的上部起依次构成第一砂层、反应剂层以及第二砂层；
上述反应剂含有磷酸氢钙二水合物(A)与颗粒(B)，磷酸氢钙二水合物(A)被颗粒(B)负载；
上述第一砂层由有效径小于上述颗粒(B)的第一砂组成；
上述第二砂层由有效径小于上述颗粒(B)的第二砂组成。
2.如权利要求1所述的反应槽，其中，该反应槽进一步具有第三砂层，上述第三砂层由有效径大于第二砂的第三砂组成，上述第三砂层设于第二砂层之下。
3.如权利要求1所述的反应槽，其中，该反应槽进一步容纳有碎石，由上述碎石组成的碎石层设于第二砂层之下。
4.如权利要求2所述的反应槽，其中，该反应槽进一步容纳有碎石，由上述碎石组成的碎石层设于第三砂层之下。
5.如权利要求1、2、3或4所述的反槽，其中，颗粒(B)是有效径为0.3mm～3.0mm的颗粒。
6.如权利要求1、2、3、4或5所述的反应槽，其中，颗粒(B)的均匀系数为1.5以下。
7.如权利要求1、2、3、4、5或6所述的反应槽，其中，磷酸氢钙二水合物(A)的平均粒径为10μm～100μm。
8.一种处理设备，其为用于从含有氟的处理对象水中除去氟的处理设备，该处理设备的特征在于，其具备：
用于贮留处理对象水的处理对象水贮留槽；
权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的反应槽；
用于将上述处理对象水由处理对象水贮留槽供给至反应槽中的配管；以及
用于将处理水从反应槽中排出的配管，该处理水是使上述处理对象水在反应槽中通过而得到的。
9.如权利要求8所述的处理设备，其中，在反应槽内进一步具有至少1个贮留处理水的区域。
10.如权利要求8或9所述的处理设备，其中，该处理设备进一步具备：
用于贮留反洗水的反洗水贮留槽；
用于将从反应槽中排出的处理水供给至反洗水贮留槽的配管；以及
用于将贮留在反洗水贮留槽中的处理水供给至反应槽中的配管。
11.一种处理方法，其特征在于，该处理方法包括如下工序：使含有氟的处理对象水在权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的反应槽中通过来除去该处理对象水中的氟。
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