[发明专利]质量分析装置和质量校正方法

摘要

在对同一被检试料重复进行多次设定了m/z是已知的（m/z＝M）母离子的MS/MS分析时，在其中一部分实施难以发生CID的解离条件下的MS/MS分析（S3-S9）。如果通过积算如此获得的质谱数据而制作MS/MS质谱图（S10），则一定能观测到m/z＝M且为已知的母离子。因此，在MS/MS质谱图上检测出相当于该离子的峰，求出该m/z的实测值与m/z的理论值M之间的质量偏差（S11），制作基于质量偏差而校正了其他峰的质量偏移的质谱图（S12）。由此，在MS/MS质谱图中也能够进行实质上是根据内部标准法的质量校正，能够比以往提升质量精度。

主权项

一种质量分析装置，其特征在于，能够进行MSⁿ(此处n是2以上的整数)分析，具备：离子解离部，其使源自试料中的化合物的离子解离；质量分析部，其对由该解离操作而生成的离子进行质量分析，该质量分析装置具备：a)分析控制部，其使所述离子解离部工作，以便进行以在不对离子进行解离操作而获得的MS¹质谱图中被观测到的具有已知质荷比的峰留在MSⁿ质谱图中的方式调整了解离条件的解离操作；b)质谱图制作部，其基于在所述分析控制部的控制下实施由所述离子解离部的解离操作时所获得的质谱数据，制作MSⁿ质谱图；以及c)质量校正部，其在由所述质谱图制作部制作的MSⁿ质谱图中检测出具有所述已知的质荷比的峰，并利用该峰的质荷比的实测值和已知的质荷比值之间的差，校正所述MSⁿ质谱图中的各峰的质荷比