[发明专利]透明电极薄膜的制备装置及其制备方法在审
| 申请号： | 201280075099.0 | 申请日： | 2012-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104508762A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 金东洙 | 申请（专利权）人： | 汉田大学校产学协力团 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 王程;何冲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及透明电极薄膜的制备装置及其制备方法，具体地本发明涉及能够快速量产透明电极薄膜且能将表面粗糙度的特性改善至纳米水平的透明电极薄膜的制备装置及其制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 电极 薄膜 制备 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种透明电极薄膜的制备装置，包括：热压部，该热压部用于形成薄膜基材上的网格状图案槽；凹版印刷辊涂层部，该凹版印刷辊涂层部通过向所述网格状图案槽内填充含有导电性浆体的导电性油墨来进行印刷；及导电性物质涂层部，该导电性物质涂层部用于在印刷有导电性油墨的薄膜基材的表面上通过同时使用喷气和放电方式喷射导电性物质且在进行最后的涂层过程中仅通过放电方式喷射导电性物质来满足用户所要求的表面粗糙度值，从而形成导电性涂层。
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