[发明专利]光刻设备、器件制造方法和计算机程序有效
| 申请号： | 201280057705.6 | 申请日： | 2012-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN103946750B | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | P·提奈马恩斯;A·布里克尔;E·鲁普斯特拉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及参照部位的位置和/或旋转确定用于照射目标上的多个部位的多个束的强度值。此外提供相关的光刻或曝光设备，相关的器件制造方法和相关的计算机程序。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，包括：辐射源，配置成产生具有独立可控强度的多个辐射束；投影系统，配置将所述多个辐射束中的每一个辐射束投影到目标上的各自的部位上；和控制器，配置成计算所述多个辐射束中的每一个辐射束的目标强度值，以将目标曝光至想要的图案并控制辐射源以发射具有目标强度值的多个束，其中所述控制器参照多个部位中的每一个部位相对于投影系统的位置或参照多个部位中的每一个部位相对于投影系统的位置和旋转计算目标强度值，并且所述控制器配置成通过使用用于每个辐射束的对该辐射束与相邻辐射束之间的交叉耦合建模的函数计算目标强度值。
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