[发明专利]光刻设备、器件制造方法和计算机程序

说明书

本发明涉及参照部位的位置和/或旋转确定用于照射目标上的多个部位的多个束的强度值。此外提供相关的光刻或曝光设备，相关的器件制造方法和相关的计算机程序。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2011年11月29日递交的美国临时申请第61/564,642号的权益。该临时申请以引用的方式整体并入本文。

技术领域

本发明涉及曝光设备、光刻设备、制造器件的方法以及计算机程序。

背景技术

光刻设备是一种将期望的图案应用到衬底上或衬底的一部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)、平板显示器以及具有精细特征的其它装置或结构的制造中。在传统的光刻设备中，可以将称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生对应于IC、平板显示器或其它装置的单层的电路图案。可以将这一图案转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。在类似方面中，曝光设备是在衬底(或衬底的一部分)上形成期望的图案的过程中使用辐射束的机器。

除了电路图案，图案形成装置还可以用于产生其它图案，例如滤色器图案或点矩阵。替代传统的掩模，图案形成装置可以包括图案形成阵列，该图案形成阵列包括产生电路或其它可应用图案的独立可控元件的阵列。与传统的基于掩模的系统相比，这样的“无掩模”系统的优点是，可以更加快速地设置和/或更换图案，且成本较小。

因此，无掩模系统包括可编程图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。使用独立可控元件的阵列对可编程图案形成装置进行(例如电子或光学地)编程，用于形成期望的图案化的束。可编程图案形成装置的类型包括微反射镜阵列、液晶显示器(LCD)阵列、光栅光阀阵列、自发射式对比度装置的阵列等。可编程图案形成装置还可以由光电偏转器形成，其配置成例如移动投影到衬底上的辐射的斑点或间歇地将辐射束从衬底引导离开，例如引导至辐射束吸收器。在任一这样的布置中，辐射束可以是连续的。

发明内容

在光刻或曝光过程中，可以产生多个辐射束，被图案化并且投影到衬底上。多个束可以不具有良好地限定的边界并且不同程度地重叠。在一个示例中，可以使用自发射对比度装置的阵列以便生成辐射束，如上指出的。然而，虽然自发射对比度装置中的每一个可以设计成提供具有名义轮廓的辐射束，但是在自发射对比度装置的每一个提供的辐射束的轮廓中容易存在一些变化。这可以例如由于制造容差和/或在使用时影响自发射式对比度装置的性能的环境因素。自发射式对比度装置可以例如是激光二极管。

投影到衬底上的辐射束的轮廓的变化是不希望的。尤其地，束轮廓中的变化影响相邻的成像点之间的相互作用，导致束之间的串扰或耦合。为了解决这个问题，可以调节成像时各个束的相互作用以考虑相邻斑点的影响。每个束的(去)卷积核被用于计算该相互作用。因此，期望提供例如一种光刻或曝光系统，其中一个或多个辐射束的轮廓相对于名义轮廓的偏差诱发的一个或多个问题可以消除或减轻。

根据本发明的实施例，提供一种曝光设备，包括：辐射源，配置成产生具有独立可控强度的多个辐射束；投影系统，配置将所述辐射束中的每一辐射束投影到目标上的相应部位(location)；和控制器，配置成计算所述多个辐射束中的每一辐射束的目标强度值，以将目标曝光至想要的图案并控制辐射源发射具有目标强度值的多个束，其中所述控制器参照多个部位中的每一个部位相对于投影系统的位置和/或旋转计算目标强度值。

根据本发明的实施例，提供一种器件制造方法，其中目标将要用想要的图案照射，所述方法包括：计算将要用于照射所述目标的多个辐射束中的每一辐射束的强度值，参照在目标上的多个部位的相对于投影系统的位置和/或旋转执行所述计算；和使用投影系统将具有计算的强度值的辐射束投影到部位中的对应的一个部位上。