[发明专利]掩模和包括该掩模的滤光器制造设备有效
| 申请号： | 201280036229.X | 申请日： | 2012-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN103703418B | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 辛富建;金信英;金在镇;李多美 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/24 | 分类号： | G03F7/24;G03F1/50 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 许向彤,陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种掩模以及包括该掩模的滤光器制造设备。一种用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺的掩模，所述基膜被配置成沿弯曲表面移动，所述掩模包括掩模体，所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面。所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。所述掩模和滤光器制造设备能够实现在所述基膜上形成均匀图案，以提高产品的质量，并精确地获得所述基膜的性质。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 滤光 制造 设备 | ||
【主权项】：
一种用于卷对卷工艺的掩模，所述卷对卷工艺在被配置成沿弯曲表面移动的基膜中形成图案，所述掩模包括：掩模体，所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面，其中，在所述掩模体的所述弯曲表面上沉积有金属薄层，其中，用于在所述基膜中形成所述图案的至少一个开口形成在所述金属薄层中，并且开口的内壁被形成为越往所述内壁的下部宽度越小。
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