[发明专利]掩模和包括该掩模的滤光器制造设备有效
申请号: | 201280036229.X | 申请日: | 2012-07-23 |
公开(公告)号: | CN103703418B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 辛富建;金信英;金在镇;李多美 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/24 | 分类号: | G03F7/24;G03F1/50 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人: | 许向彤,陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 滤光 制造 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种滤光器制造设备,更具体地讲,涉及一种具有含预定开口的弯曲形状的掩模和包括该掩膜的滤光器制造设备,该滤光器制造设备具有高的图案化精确度,不会受到掩模与基膜之间的距离的影响,可以应用卷对卷(roll-to-roll)工艺。
背景技术
近些年来,通过使用具有预定波长的偏振光来照射液晶显示器(LCD)的对准层或视角补偿基膜层来对光进行对准的技术得到了广泛使用。常规上,作为线型光源的杆形灯具与线栅偏振器(WGP)的组合(如在韩国专利公开案No.2006-0053117和韩国专利公开案No.2009-0112546中所描述)被用作光对准层的偏振光辐射装置。
随着液晶(LC)面板体型增大,光对准技术也随之增大。因此,具有较大面积的光辐射区域被光辐射装置以较高亮度辐射,该光辐射装置被配置成向该光对准层辐射偏振光。
为了以高亮度的光来辐射大面积,光辐射装置的光源也应相应增大。由于决定对准的偏振光的方向取决于入射光的入射角,所以当光源按比例放大时,在光辐射区域中会出现入射角的不均匀,由此在偏振轴中出现不均匀。结果,对准方向在辐射区域上不是均匀的,使得光可能会在不想要的方向中对准。
另外,在卷对卷工艺中,存在许多光辐射区域具有弯曲表面的情况。在这些情况中,随着光辐射区域的面积增大,由弯曲表面所导致的偏振轴的不均匀在光辐射区域中就更加成为问题。
为了获得在大面积上的均匀偏振分布,应将高度准直的光入射到偏振装置上。为了生成与大面积相对应的高度准直的光,需要大的设备。因为随着设备的光路长度增加,光强在减小,所以处理时间增加,进而降低生产率。因此,为了生成准直光,难以在不放大设备的情况下实施光性质。因此,无法执行卷对卷工艺,使得生产率显著降低。
发明内容
技术问题
本发明涉及提供一种掩模和包括该掩模的滤光器制造设备,其可以将大面积区域均匀地暴露到光下,辐射高度准直的光,提供均匀的对准性能,对大面积区域进行有效的光对准操作。
本发明的技术目的不限于上述公开内容,对于本领域的普通技术人员来说,其他目的可以在以下描述中变得一目了然。
技术方案
本发明的一个方面提供一种掩模,用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺,该基膜被配置成沿弯曲表面移动。该掩模包括掩模体,所述掩模体具有被设置成与基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与该弯曲表面的相反侧相对应的平表面。
该掩模体的弯曲表面可以设置成与该辊的弯曲表面相距预定距离。
可以在该掩模体的弯曲表面上形成金属薄层。
该金属薄层可以是铬(Cr)或铝(Al)薄层。
可以在该金属薄层中形成用于在该基膜中形成该等图案的至少一个开口。
可以使用激光直写技术来加工该等开口。
该等开口的内壁可以形成为越往内壁的下部宽度越小。
可以在该等开口的内壁上形成全反射层以增加光的线性度。
可以在该掩模体中形成用于在该基膜中形成该等图案的开口。
该掩模体的弯曲表面可以具有与该辊相同的曲率。
该基膜可以保持为与该掩模体相距约100μm或100μm以下的距离。
该掩模可以包括在该掩模体的两侧上所包括的夹具固定单元,该等夹具固定单元固定到夹具上。
可以通过将具有弯曲表面的掩模体的两侧加工成台阶状来形成该等夹具固定单元,并且可以在该等夹具固定单元中形成多个安装孔。
本发明的另一方面提供一种使用卷对卷工艺的滤光器制造设备,该卷对卷工艺在基膜中形成图案。所述基膜被配置成沿弯曲表面移动。所述设备包括:光源,所述光源被配置成生成用于曝光过程的光;安装在所述光源的发光侧的偏振器,所述偏振器被配置成对由所述光源生成的光进行偏振;以及上述掩模。
所述光源可以是紫外(UV)灯。
所述偏振器可以是线栅偏振器(WGP)。
有益效果
根据本发明,由于设置成与辊相对的掩模的表面被形成为弯曲类型,以使得被配置成沿着所述辊移动的基膜与掩模之间的距离均匀化,所以能够以均匀的亮度将光辐射到该基膜的整个表面上。因此,能够在该基膜上均匀地形成图案,使得可以提高产品的质量并且该基膜的性质也可以精确地实施。
附图说明
图1是根据本发明的一个示例性实施例的掩模的透视图;
图2是根据本发明的一个示例性实施例的滤光器制造设备的透视图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG化学株式会社,未经LG化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280036229.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。