[发明专利]掩模和包括该掩模的滤光器制造设备

权利要求书

1.一种用于卷对卷工艺的掩模，所述卷对卷工艺在被配置成沿弯曲表面移动的基膜中形成图案，所述掩模包括：

掩模体，所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面，

其中，在所述掩模体的所述弯曲表面上沉积有金属薄层，

其中，用于在所述基膜中形成所述图案的至少一个开口形成在所述金属薄层中，并且开口的内壁被形成为越往所述内壁的下部宽度越小。

2.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。

3.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述金属薄层是铬(Cr)或铝(Al)薄层。

4.根据权利要求1所述的掩模，其中，开口使用激光直写技术来加工。

5.根据权利要求1所述的掩模，其中，在开口的内壁上形成有全反射层以增加光的线性度。

6.根据权利要求1所述的掩模，其中，用于在所述基膜中形成所述图案的开口被形成在所述掩模体中。

7.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述掩模体的所述弯曲表面具有与所述辊相同的曲率。

8.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述基膜被保持在与所述掩模体相距约100μm或100μm以下的距离。

9.根据权利要求1所述的掩模，进一步包括夹具固定单元，所述夹具固定单元被包括在所述掩模体的两侧上并被固定到夹具上。

10.根据权利要求9所述的掩模，其中，通过将具有所述弯曲表面的所述掩模体的两侧加工成台阶状来形成所述夹具固定单元，并且多个安装孔形成在所述夹具固定单元中。

11.一种使用卷对卷工艺的滤光器制造设备，所述卷对卷工艺在被配置成沿弯曲表面移动的基膜中形成图案，所述设备包括：

光源，所述光源被配置成生成用于曝光工艺的光；

偏振器，安装在所述光源的发光侧，并且所述偏振器被配置成对由所述光源生成的光进行偏振；

辊，被配置为使得所述基膜能够通过缠绕在所述辊上而移动；以及

掩模，所述掩模设置在所述偏振器与所述辊之间并且包括掩模体，所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面，

其中，在所述掩模体的所述弯曲表面上沉积有金属薄层，

其中，用于在所述基膜中形成所述图案的至少一个开口形成在所述金属薄层中，并且开口的内壁被形成为越往所述内壁的下部宽度越小。

12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述光源是紫外(UV)灯。

13.根据权利要求11所述的设备，其中，所述偏振器是线栅偏振器(WGP)。