[发明专利]光学设备用遮光材料及其制造方法有效
| 申请号： | 201280015546.3 | 申请日： | 2012-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN103443666A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 丰岛靖麿;大久保贵志 | 申请（专利权）人： | 木本股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G03B9/02;G03B9/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供制造具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且低光泽度区域宽的遮光膜的光学设备用遮光材料的方法。其为制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数为20以上的消光剂的涂敷液。接着，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 备用 遮光 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学设备用遮光材料的制造方法，其是制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，其特征在于，准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。
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