[发明专利]光学设备用遮光材料及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及制造可适合用于各种光学设备的遮光部件、特别是具备完全消光性能的遮光材料的方法、和通过该方法制造的遮光材料。

背景技术

作为光学设备的以快门或光圈等为代表的遮光部件中使用的遮光材料，已知有在由合成树脂构成的薄膜基材上设置含有有机填料的遮光膜的遮光薄膜(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-319004

发明内容

发明所要解决的问题

专利文献1中，由于使用含有仅控制了平均粒径的有机填料的涂敷液而在薄膜基材上形成遮光膜，所以遮光膜的消光性不完全。具体而言，虽然相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度入射来的光的反射受到抑制，但是以接近平面方向的角度入射来的光发生反射。该反射在光学设备内成为称为重影的不良情况，成为导致产品性能的降低的原因。这样，专利文献1的技术不能吸收以所有角度入射来的光。

此外，专利文献1中由于使用含有仅控制了平均粒径的有机填料的涂敷液，所以得到低光泽度的遮光膜的膜厚范围非常窄，其形成并不容易。

另外，为了维持作为遮光材料的产品性能，除了相对于所有角度的入射光的低光泽性以外，还必须同时满足遮光性。

本发明的一方面提供用于制造具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且得到低光泽度的入射角度的区域(以下，低光泽度区域)宽的遮光膜的光学设备用遮光材料的方法、和通过该方法制造的光学设备用遮光材料。本发明的另一方面提供能够以各种膜厚形成低光泽度区域宽的遮光膜的遮光膜形成用涂敷液。

用于解决问题的方法

作为可对遮光膜直接赋予消光效果(与低光泽性同义)的消光剂的选定基准，本发明者们不着眼于平均粒径，而着眼于粒度分布进行了研究。其结果发现，通过采用某粒径下的粒度分布宽的消光剂，从而保持遮光膜的必要物性，并且不但对于相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射的光，就连对于以接近平面方向的角度(例如85度)入射来的光，也能够可靠地抑制相对于该入射光的反射光，能够扩大低光泽度区域的宽度。

此外还发现，通过采用上述特定的消光剂，能够以各种膜厚形成低光泽度区域宽的遮光膜，即能够扩大得到低光泽度的合适的膜厚范围。

即本发明所述的光学设备用遮光材料的制造方法的特征在于，其是制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，其中，准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数(CV值)为20以上的消光剂的涂敷液，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。

本发明所述的光学设备用遮光材料的特征在于，其是在基材上具有至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂的遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，上述遮光膜使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液而形成，60度镜面光泽度(G60)被调整为低于1，且85度镜面光泽度(G85)被调整为低于15。

本发明所述的遮光膜形成用涂敷液的特征在于，其是用于形成在基材上具有遮光膜的光学设备用遮光材料的上述遮光膜的涂敷液，其中，至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、消光剂及溶剂，上述消光剂的变异系数为20以上。

发明的效果

根据上述发明方法，由于使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，所以能够在基材上形成赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果的遮光膜。此外，由于涂敷液中含有粘合剂树脂和黑色微粒，所以对于所形成的遮光膜，也能够保持遮光性等必要物性。

根据通过上述发明方法制造的光学设备用遮光材料，由于使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液来形成遮光膜，所以对该遮光膜赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果(例如后述的G20、G60及G85均低)。

根据利用上述发明的涂敷液，由于含有变异系数为20以上的消光剂，所以容易以各种膜厚形成赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果的遮光膜。如上所述，专利文献1中使用的涂敷液由于含有仅控制了平均粒径的有机填料，所以得到低光泽度的遮光膜的膜厚范围极小，且极难控制有机填料的存在状态，操作性差。

具体实施方式

以下，对本发明的一实施方式进行说明。

本实施方式所述的光学设备用遮光材料可以适当用于照相机(包括带有照相机的手机)或投影机等光学设备的遮光部件，且具有基材。在基材的至少单面上形成有遮光膜。本实施方式的遮光膜至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂而构成。