[发明专利]光学设备用遮光材料及其制造方法

权利要求书

1.一种光学设备用遮光材料的制造方法，其是制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，其特征在于，

准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述消光剂具有相当于所述遮光膜的膜厚的35～110％的平均粒径。

3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述消光剂为平均粒径为10μm以下的有机微粒。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述消光剂在所述涂敷液中的含量是相对于100重量份粘合剂树脂为50重量份以上且170重量份以下。

5.一种光学设备用遮光材料，其特征在于，其是在基材上具有至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂的遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，

所述遮光膜使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液而形成，

60度镜面光泽度被调整为低于1，且85度镜面光泽度被调整为低于15。

6.一种遮光膜形成用涂敷液，其特征在于，其用于形成在基材上具有遮光膜的光学设备用遮光材料的所述遮光膜，其中，

至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、消光剂及溶剂，

所述消光剂的变异系数为20以上。

7.一种光学部件，其使用了权利要求5所述的遮光材料。

8.一种摄像装置，其包含权利要求7所述的光学部件。