[发明专利]包含超支化聚合物和金属微粒的非电解镀基底剂有效
申请号: | 201280014536.8 | 申请日: | 2012-04-11 |
公开(公告)号: | CN103476966A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 小岛圭介 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C08F12/14;C08G61/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题是提供保护环境,可以以少的工序数简便地处理,此外可以实现低成本化的作为非电解镀的前处理工序而使用的新的基底剂。作为解决本发明课题的方法涉及一种基底剂,是用于通过非电解镀处理在基材上形成金属镀膜的基底剂,其包含分子末端具有铵基且重均分子量为500~5,000,000的超支化聚合物、和金属微粒。 | ||
搜索关键词: | 包含 超支 聚合物 金属 微粒 电解 基底 | ||
【主权项】:
一种基底剂,是用于通过非电解镀处理在基材上形成金属镀膜的基底剂,其包含分子末端具有铵基且重均分子量为500~5,000,000的超支化聚合物、和金属微粒。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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