[实用新型]采用泵浦式紫外光源的微电子及精密器件清洗系统有效
| 申请号： | 201220712236.4 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN203170634U | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 张学渊;赵健;梁忠辉;钟伟杰;唐伟;夏忠平 | 申请（专利权）人： | 上海显恒光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 何新平 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及精密加工领域，具体涉及紫外超精密清洗领域。采用泵浦式紫外光源的微电子及精密器件清洗系统包括一清洗腔、一清洗执行系统，清洗执行系统连接一紫外光源，以及一控制系统，紫外光源采用一电子束激发紫外光源，还包括一激励源，激励源采用一电子枪系统；电致发光半导体机构设置在电子枪系统的靶向方向上，电致发光半导体机构连接一电极；电子束激发紫外光源还设有一用于透射出紫外线的出光口。通过将传统的精密器件清洗系统中的紫外光源替换为新型的电子束激发紫外光源，减小设备体积、降低功耗并且提高了特定波段紫外光的纯度。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 泵浦式 紫外 光源 微电子 精密 器件 清洗 系统 | ||
【主权项】：
采用泵浦式紫外光源的微电子及精密器件清洗系统包括一清洗腔、一清洗执行系统，所述清洗执行系统连接一紫外光源，以及一控制系统，其特征在于：所述紫外光源采用一电子束激发紫外光源，所述电子束激发紫外光源包括一电致发光半导体机构，还包括一激励源，所述激励源采用一电子枪系统；所述电致发光半导体机构设置在所述电子枪系统的靶向方向上，所述电致发光半导体机构连接一电极；所述电子束激发紫外光源还设有一用于透射出紫外线的出光口。
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