[实用新型]一种掩模框架及其对应的蒸镀用掩模组件有效

专利信息
申请号: 201220454508.5 申请日: 2012-09-07
公开(公告)号: CN202913047U 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;潘世珎 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种掩模框架及其对应的蒸镀用掩模组件,其中掩模框架包括包含两组对边的外框、置于外框内侧的固定杆及用于连接外框和固定杆的固定机构;外框与固定杆接触部分有配合机构,造成两者之间存在一定的间隙,同时,外框与固定杆对应区域有配合孔,配合孔的排布可根据受力情况进行计算排布;掩模框架还可以包括支撑杆和弹性部件,可以进一步降低掩模板的下垂现象。提升产品质量、精度以及良品率,同时也可以制备尺寸更大的面板。
搜索关键词: 一种 框架 及其 对应 蒸镀用掩 模组
【主权项】:
一种掩模框架,其特征在于,包括:外框, 所述外框包括两组对边,所述两组对边构成一个中空封闭矩形框架;固定杆,所述固定杆置于所述外框内侧且与掩模板一组对边连接;及固定机构,所述固定机构用于连接所述外框和置于所述外框内侧的所述固定杆,起到支撑所述固定杆,将向内收缩的所述固定杆向外进行拉伸,起到减少或弥补当所述固定杆将所述掩模板绷紧时产生的所述固定杆边框向内收缩量的作用。
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