[实用新型]一种掩模框架及其对应的蒸镀用掩模组件有效

专利信息
申请号: 201220454508.5 申请日: 2012-09-07
公开(公告)号: CN202913047U 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;潘世珎 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 框架 及其 对应 蒸镀用掩 模组
【权利要求书】:

1.一种掩模框架,其特征在于,包括:

外框, 所述外框包括两组对边,所述两组对边构成一个中空封闭矩形框架;

固定杆,所述固定杆置于所述外框内侧且与掩模板一组对边连接;

及固定机构,所述固定机构用于连接所述外框和置于所述外框内侧的所述固定杆,起到支撑所述固定杆,将向内收缩的所述固定杆向外进行拉伸,起到减少或弥补当所述固定杆将所述掩模板绷紧时产生的所述固定杆边框向内收缩量的作用。

2.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述中空封闭矩形框架为一体成型或由所述两组对边通过连接部件连接构成。

3.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述固定杆通过所述固定机构配合固定在所述外框的一组对边内侧上。

4.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述外框与所述固定杆间设置有配合机构,且所述配合机构使所述外框和所述固定杆连接时具有间隙。

5.根据权利要求4所述的掩模框架,其特征在于,所述配合机构对称的设置在掩模框架的四个角附近。

6.根据权利要求4所述的掩模框架,其特征在于,所述对应的配合机构是分别位于所述外框和所述固定杆接触部位具有精确定位的凸起结构和凹陷结构。

7.根据权利要求6所述的掩模框架,其特征在于,所述具有定位作用的凸起结构和凹陷结构是半径相同、配合后二者能够实现重合的圆柱体或者是可配合的梯形凸起结构和可与所述梯形凸起结构配合定位的凹陷结构或者是n大于等于1个柱状凸起结构和可与所述柱状凸起结构配合的凹陷结构,所述柱状突起结构和所述柱状凸起结构配合的凹陷结构的中心线重合且垂直于所述接触部位表面或者具有配合定位功能的突起球状结构和凹陷球冠腔室。

8.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述固定机构是螺丝和设置在所述外框上的螺丝沉头孔结构和设置在固定杆上的螺孔结构。

9.根据权利要求8所述的掩模框架,其特征在于,所述螺丝为密纹螺丝。

10.根据权利要求8所述的掩模框架,其特征在于,所述螺孔结构在所述固定杆上为螺纹盲孔。

11.根据权利要求8所述的掩模框架,其特征在于,所述固定机构在所述外框和所述固定杆长度方向上按规律排列。

12.根据权利要求11所述的掩模框架,其特征在于,所述固定机构为中间密集、两端稀疏规则排列或均匀排列或中间稀疏、两端密集排列。

13.根据权利要求8所述的掩模框架,其特征在于,所述固定机构还包括用于增加所述固定杆和所述外框之间支撑力的弹性部件。

14.根据权利要求13所述的掩模框架,其特征在于,所述弹性部件是弹簧。

15.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述外框还包括与有突起平台,所述突起平台与所述固定杆对边下表面紧密接触,掩膜框架水平放置时,所述突起平台起到支撑所述固定杆的作用。

16.根据权利要求15所述的掩模框架,其特征在于,所述突起平台与所述外框对边的内侧均设置有倒角结构或过渡曲线结构。

17.根据权利要求1所述的掩模框架,其特征在于,所述固定杆的上表面位置不低于掩模框架上其它结构上与其平行的平面。

18.根据权利要求18所述的掩模框架,其特征在于,所述外框的一组对边上设置有凸起面,所述固定杆的上表面与其处于同一平面上。

19.根据权利要求1-18任一项所述的掩模框架,其特征在于,所述掩模框架还包括在所述外框一组对边上设置的与所述固定杆相对应的楔子,所述楔子可以使所述固定杆两端位置固定。

20.一种对应的蒸镀用掩模组件,其特征在于,包括权利要求1-19的所述掩模框架和掩模部件,所述掩模部件固定连接在所述掩模框架中的所述固定杆上。

21.根据权利要求20所述的对应的蒸镀用掩模组件,其特征在于,所述掩模部件是多块掩模板拼接而成,或者是一体成型的单块掩模板构成。

22.根据权利要求20所述的对应的蒸镀用掩模组件,其特征在于,所述掩模部件与构成掩模框架的内框的结合部为胶水粘接或激光焊接连接结构。

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