[实用新型]光刻机的预对准机构有效

专利信息
申请号: 201220384644.1 申请日: 2012-08-03
公开(公告)号: CN202815412U 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 宣胤杰 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种光刻机的预对准机构,至少包括:具有旋转本体及第一抽气通孔的旋转台,具有塑料本体、对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔、及连通所述第二抽气通孔的沟槽的真空吸盘,具有光源发射端以及光源接收端的光学组件。本实用新型的光刻机的预对准机构因采用了工程塑料作为真空吸盘,进而良好的控制了由于其自身造成的污染,确保了预对准机构中真空吸盘的平整度,加强了所述真空吸盘对附于其上的晶圆的固定作用,为预对准工序的正常实施提供了保证。
搜索关键词: 光刻 对准 机构
【主权项】:
一种光刻机的预对准机构,设置在所述光刻机中用于对边缘具有缺口或平边的晶圆进行预对准作业的预对准平台上,其特征在于,所述预对准机构至少包括:旋转台,设置在所述预对准平台上,包括具有一平整台面的旋转本体、以及穿设于所述旋转本体的第一抽气通孔;真空吸盘,固定于所述旋转台上,包括具有上、下平整表面的塑料本体、以及穿设于所述塑料本体且对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔,所述塑料本体的下表面贴合于所述旋转本体的平整台面上,所述塑料本体的上表面开设有多个连通所述第二抽气通孔的沟槽;以及光学组件,包括设置在所述真空吸盘上侧的光源发射端、以及设置在所述光源发射端的光源传播路径上且位于所述真空吸盘下侧的光源接收端,所述光源接收端透过所述真空吸盘上晶圆边缘的缺口或平边感测到所述光源发射端发射的光线后使所述旋转台停止旋转以预对准所述晶圆。
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