[实用新型]光刻机的预对准机构有效
申请号: | 201220384644.1 | 申请日: | 2012-08-03 |
公开(公告)号: | CN202815412U | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 宣胤杰 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 对准 机构 | ||
1.一种光刻机的预对准机构,设置在所述光刻机中用于对边缘具有缺口或平边的晶圆进行预对准作业的预对准平台上,其特征在于,所述预对准机构至少包括:
旋转台,设置在所述预对准平台上,包括具有一平整台面的旋转本体、以及穿设于所述旋转本体的第一抽气通孔;
真空吸盘,固定于所述旋转台上,包括具有上、下平整表面的塑料本体、以及穿设于所述塑料本体且对应所述第一抽气通孔的第二抽气通孔,所述塑料本体的下表面贴合于所述旋转本体的平整台面上,所述塑料本体的上表面开设有多个连通所述第二抽气通孔的沟槽;以及
光学组件,包括设置在所述真空吸盘上侧的光源发射端、以及设置在所述光源发射端的光源传播路径上且位于所述真空吸盘下侧的光源接收端,所述光源接收端透过所述真空吸盘上晶圆边缘的缺口或平边感测到所述光源发射端发射的光线后使所述旋转台停止旋转以预对准所述晶圆。
2.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:还包括设置在所述预对准平台一侧的机械手,夹持并移动所述晶圆将其放置于或移离所述真空吸盘。
3.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述塑料本体为聚醚醚酮材质。
4.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述光源发射端为LED光源;所述光源接收端为CCD传感器。
5.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述旋转台还包括开设于所述平整台面上且具有内螺纹的盲孔。
6.根据权利要求5所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述真空吸盘还包括穿设于所述塑料本体且对应所述盲孔的沉孔。
7.根据权利要求6所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述真空吸盘与旋转台通过穿设于所述沉孔并旋紧于所述盲孔中的紧固件固定。
8.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述第一抽气通孔藉由一导管连通一抽真空装置。
9.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述沟槽包括环绕所述第二抽气通孔的多个环形沟槽、及连通各该环形沟槽和所述第二抽气通孔的十字沟槽。
10.根据权利要求1所述的光刻机的预对准机构,其特征在于:所述第二抽气通孔位于所述塑料本体的中心;所述第一抽气通孔位于所述旋转本体的中心。
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