[实用新型]一种清洁装置有效

专利信息
申请号: 201220337086.3 申请日: 2012-07-11
公开(公告)号: CN202779055U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 王凤国;李平福;陈磊;李嘉鹏;胡博 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;B08B15/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 张颖玲;周义刚
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种清洁装置,应用于包括基台和轨道的半导体场景,该清洁装置包括向轨道吹气的喷枪,该喷枪的设置位置为:在与至少一条轨道同侧的基台上,面向轨道的至少一端设置有喷枪;所述装置上还可以设置从轨道吸气的收集器,该收集器的设置位置为:在与至少一条轨道同侧的基台上,面向轨道的至少一端设置有收集器。本实用新型都能够有效地进行轨道清洁,因此能够避免因外物落在轨道上而影响基台运动的情况发生。
搜索关键词: 一种 清洁 装置
【主权项】:
一种清洁装置,应用于包括基台和轨道的半导体上,其特征在于,该清洁装置包括向轨道吹气的喷枪,所述喷枪设置于与至少一条轨道同侧的基台上,面向轨道的至少一端设置有喷枪。
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