[实用新型]一种清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及清洁设备领域，具体涉及一种清洁装置。

背景技术

半导体行业对于运动部件的运动精度要求相对较高，其中尤以光刻工艺为甚。对于采用掩膜板(Mask)的光刻工艺，要求掩膜板和基板(Glass)之间保持同步运动，相对运动偏差需要控制在微米以上。目前的掩膜板及基板的运动关系为基台(Stage)1在轨道(Guide)2上滑动，如图1所示，基台1与轨道2的间隙为微米级别。为了保证基台1的运动精度达到微米级别，要求轨道2为光滑镜面。

然而，在半导体的实际生产过程中，存在颗粒(Particle)等外物掉落在轨道上阻碍基台运动的情况，严重时可能造成轨道划伤，从而导致需要更换备件，不仅费力而且费时。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种清洁装置，能尽量避免因外物落在轨道上而影响基台运动的情况发生。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种清洁装置，应用于包括基台和轨道的半导体上，该清洁装置包括向轨道吹气的喷枪，所述喷枪设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有喷枪。

进一步的，所述喷枪包括基座以及与基座相连的喷头；其中，所述基座内部存在为所述喷头提供气体的空气通路，喷头与基座的连接处存在空气通路，喷头面向轨道的位置上设置有喷孔。

进一步的，所述基座中设置有气流强度调节装置。

进一步的，所述基座为矩形立方体、或三角形立方体；所述喷头为圆柱体，或为圆锥体；所述喷头的个数为至少一个，所述喷头具有可变更的气体喷射角度。

进一步的，所述基座与喷头由轻型材料制成。

进一步的，该清洁装置还设置有从轨道吸气的收集器，所述收集器设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有收集器。

一种清洁装置，应用于包括基台和轨道的半导体上，该清洁装置包括从轨道吸气的收集器，所述收集器设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有收集器。

进一步的，所述收集器包括主体、收集孔；其中，所述主体围绕所述轨道设置，主体中设置有通过所述收集孔吸气的收集通道。

进一步的，所述主体中设置有气流强度调节装置。

进一步的，所述主体为矩形立方体、或三角形立方体；所述收集孔为圆形、矩形、或三角形；所述收集孔的个数为至少一个，所述收集孔具有可变更的吸气角度。

本实用新型在基台前端和/或后端加装清洁装置，因而能够有效地进行轨道清洁，避免因外物落在轨道上而影响基台运动的情况发生。

附图说明

图1为基台与轨道之间的结构关系示意图；

图2为本实用新型实施例中喷枪的主视图；

图3为本实用新型实施例中收集器的主视图；

图4为本实用新型中喷枪与收集器的设置位置示意图；

图5为本实用新型中喷枪与收集器的组装结构图；

附图标记说明：

1、基台；2、轨道；3、喷枪；4、基座；5、喷头；6、收集器；7、主体；8、收集孔；9、喷孔。

具体实施方式

针对现有技术的缺陷，可以考虑在基台前端和/或后端加装清洁装置，以防止Particle等外物落在轨道上而影响基台运动，进而减少设备部件损坏几率。

所述清洁装置主要包括喷枪，还可以包括收集器。

具体而言，如图2所示的喷枪3的主要结构包括两部分：基座4以及与基座4相连的喷头5。其中，基座4的内部存在空气通路，用于与基台1固定并为喷头5提供气体；基座4中还可附加气流强度调节装置，以调节吹向喷头5的气流强度。

喷头5与基座4的连接处存在空气通路，喷头5面向轨道2的位置上设置有喷孔9，如：在喷头5与基座4相连的一端的对端或附近的位置设置喷孔9。

无论喷枪3设置于轨道2上的位置如何变化，喷枪3都能够将来自基座4的气体从喷孔9吹向轨道2，以防止Particle等外物落在轨道2上而影响基台1运动。

需要说明的是，基座4与喷头5最好由轻型材料制成，并且基座4与喷头5的形状可根据实际情况进行调整，如：基座4为矩形立方体、三角形立方体等；喷头5为圆柱体、或为圆锥体，圆锥体的底部与基座4连接，尖端则设置有喷孔9等。实际应用时，喷头5的形状、尺存、个数(如：一个或多个)、气体喷射角度等可根据实际情况进行变更。并且，从喷孔9吹出的气体应该是洁净气体。