[实用新型]一种清洁装置

权利要求书

1.一种清洁装置，应用于包括基台和轨道的半导体上，其特征在于，该清洁装置包括向轨道吹气的喷枪，所述喷枪设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有喷枪。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷枪包括基座以及与基座相连的喷头；其中，

所述基座内部存在为所述喷头提供气体的空气通路，喷头与基座的连接处存在空气通路，喷头面向轨道的位置上设置有喷孔。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述基座中设置有气流强度调节装置。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，

所述基座为矩形立方体、或三角形立方体；所述喷头为圆柱体，或为圆锥体；

所述喷头的个数为至少一个，所述喷头具有可变更的气体喷射角度。

5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述基座与喷头由轻型材料制成。

6.根据权利要求1至5任一项所述的装置，其特征在于，该清洁装置还设置有从轨道吸气的收集器，所述收集器设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有收集器。

7.一种清洁装置，应用于包括基台和轨道的半导体上，其特征在于，该清洁装置包括从轨道吸气的收集器，所述收集器设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有收集器。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述收集器包括主体、收集孔；其中，

所述主体围绕所述轨道设置，主体中设置有通过所述收集孔吸气的收集通道。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述主体中设置有气流强度调节装置。

10.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，

所述主体为矩形立方体、或三角形立方体；所述收集孔为圆形、矩形、或三角形；

所述收集孔的个数为至少一个，所述收集孔具有可变更的吸气角度。