[实用新型]自动研磨抛光装置有效
| 申请号： | 201220296977.9 | 申请日： | 2012-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN202622546U | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 倪亮 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/30 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种自动研磨抛光装置，包括：抛光机；抛光盘，设置于所述抛光机上；搅拌器，位于所述抛光盘的上方；支架，通过一活动接口和所述搅拌器相连；电机，和所述搅拌器相连。本实用新型自动研磨抛光装置的研磨速度快，节约人力，且所研磨的样品表面各个位置受力均匀，制备出的样品表面也更加的平整。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 研磨 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种自动研磨抛光装置，其特征在于，包括：抛光机；抛光盘，设置于所述抛光机上；搅拌器，位于所述抛光盘的上方；支架，通过一活动接口和所述搅拌器相连；电机，和所述搅拌器相连。
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