[实用新型]自动研磨抛光装置有效
申请号: | 201220296977.9 | 申请日: | 2012-06-21 |
公开(公告)号: | CN202622546U | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 倪亮 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 研磨 抛光 装置 | ||
【权利要求书】:
1.一种自动研磨抛光装置,其特征在于,包括:
抛光机;
抛光盘,设置于所述抛光机上;
搅拌器,位于所述抛光盘的上方;
支架,通过一活动接口和所述搅拌器相连;
电机,和所述搅拌器相连。
2.根据权利要求1所述的自动研磨抛光装置,其特征在于:所述搅拌器的端部设置有样品槽。
3.根据权利要求1所述的自动研磨抛光装置,其特征在于:所述搅拌器表面设有螺纹,和所述活动接口配合使用。
4.根据权利要求1所述的自动研磨抛光装置,其特征在于:所述支架固定于所述抛光机上。
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