[发明专利]一种用于液相外延生长的石墨舟及液相外延生长方法有效
申请号: | 201210581874.1 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN102995115A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 田震;周立庆;马建立;胡尚正 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | C30B19/06 | 分类号: | C30B19/06;C30B19/00 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 齐洁茹 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于液相外延生长的石墨舟及液相外延生长方法,所述石墨舟包括按照顺序从下到上布置的底托、滑条、母液槽、石墨片和上盖,其中,在滑条上设置有容纳衬底的多个衬底容纳部,使得衬底能够随着滑条沿石墨舟的纵向在底托内滑动,母液槽布置在滑条上方,在母液槽中具有容纳母液的多个母液容纳部,母液容纳部穿透母液槽并且其尺寸使得滑动到母液槽正下方的衬底能够与母液完全接触,从而在衬底上进行液相外延生长,并且上盖布置在母液槽和石墨片上方。石墨片被布置在母液容纳部中并覆盖容纳在母液容纳部中的母液,通过改变石墨片的孔径的预定布置方式可以改变母液中的材料的挥发速度。 | ||
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【主权项】:
一种用于液相外延生长的石墨舟,包括按照顺序从下到上布置的底托、滑条、母液槽和上盖;其中:所述滑条上设置有容纳衬底的多个衬底容纳部,使得所述衬底能够随着所述滑条沿所述石墨舟的纵向在所述底托内滑动;所述母液槽布置在所述滑条上方,所述母液槽上设有一个或多个用于容纳母液的母液容纳部,以及设有一个或多个用于容纳补偿液的补偿液容纳部;其中,所述母液容纳部穿透所述母液槽并且其尺寸使得滑动到所述母液槽正下方的衬底能够与母液完全接触;其特征在于,所述石墨舟还包括:具有多孔结构的石墨片;所述石墨片布置在所述母液槽的母液容纳部中并覆盖容纳在所述母液容纳部中的母液,在液相外延生长时,通过使用不同孔径规格的石墨片,实现调整所述母液中材料的挥发速度和补偿速度。
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