[发明专利]一种用于液相外延生长的石墨舟及液相外延生长方法有效
申请号: | 201210581874.1 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN102995115A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 田震;周立庆;马建立;胡尚正 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | C30B19/06 | 分类号: | C30B19/06;C30B19/00 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 齐洁茹 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 外延 生长 石墨 方法 | ||
1.一种用于液相外延生长的石墨舟,包括按照顺序从下到上布置的底托、滑条、母液槽和上盖;其中:
所述滑条上设置有容纳衬底的多个衬底容纳部,使得所述衬底能够随着所述滑条沿所述石墨舟的纵向在所述底托内滑动;
所述母液槽布置在所述滑条上方,所述母液槽上设有一个或多个用于容纳母液的母液容纳部,以及设有一个或多个用于容纳补偿液的补偿液容纳部;其中,所述母液容纳部穿透所述母液槽并且其尺寸使得滑动到所述母液槽正下方的衬底能够与母液完全接触;
其特征在于,所述石墨舟还包括:具有多孔结构的石墨片;
所述石墨片布置在所述母液槽的母液容纳部中并覆盖容纳在所述母液容纳部中的母液,在液相外延生长时,通过使用不同孔径规格的石墨片,实现调整所述母液中材料的挥发速度和补偿速度。
2.如权利要求1所述的用于液相外延生长的石墨舟,其特征在于,所述石墨片的孔径规格包括孔径的大小、间距和/或数量。
3.一种使用权利要求1至2中任意一项所述的石墨舟进行液相外延生长的方法,其特征在于,包括以下步骤:
将衬底装入所述石墨舟中的滑条上;
将液相外延生长所需母液及补偿液装入所述石墨舟中的母液槽上;
将预定孔径的石墨片放置在所述母液上方;
将组装好的所述石墨舟放入液相外延炉中;
按照预定温度曲线外延生长薄膜;
外延生长结束后降温并取出石墨舟。
4.如权利要求3所述的液相外延生长方法,其特征在于,在将衬底装入石墨舟之前,还包括清洗衬底的步骤。
5.如权利要求4所述的液相外延生长方法,其特征在于,所述清洗衬底,具体包括:采用丙酮及无水乙醇进行表面清洗,然后采用0.5%溴-甲醇腐蚀衬底表面30s。
6.如权利要求3至5任一项所述的液相外延生长方法,其特征在于,在取出石墨舟的步骤之后,还包括以下步骤:对所生长的薄膜进行测量,并根据测量结果更换所述石墨片和/或调整温度曲线。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十一研究所,未经中国电子科技集团公司第十一研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210581874.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。