[发明专利]一种应用于交织SRAM抗软错误累积效应的擦洗方法有效

专利信息
申请号: 201210559913.8 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103117093B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 刘鑫;赵发展;韩郑生 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G11C29/08 分类号: G11C29/08
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种应用于交织SRAM抗软错误累积效应的擦洗方法,包含:所述交织SRAM的交织距离为m个存储单元,所述存储单元即bit;以连续n个存储单元为一擦洗单位,将所述交织SRAM顺序划分成若干个擦洗单位,并将位于奇数位的擦洗单位设为第一擦洗部分,余下的设为擦洗第二部分;依次循环对所述第一部擦洗分和第二擦洗部分进行擦洗;利用位于所述交织SRAM外围的SEC电路对每个字节内的单个错位进行纠正;使每个字节相邻的两个存储单元在前后两轮擦洗中。本发明提供的擦洗方法,解决了现有的擦洗方法存在的擦洗效率低、没有有效利用SEC电路的问题。
搜索关键词: 一种 应用于 交织 sram 错误 累积 效应 擦洗 方法
【主权项】:
1.一种应用于交织SRAM抗软错误累积效应的擦洗方法,包含:所述交织SRAM的交织距离为m个存储单元,所述存储单元即bit;以连续n个存储单元为一擦洗单位,将所述交织SRAM顺序划分成若干个擦洗单位,并将位于奇数位的擦洗单位设为第一擦洗部分,余下的设为第二擦洗部分;所述交织距离m为4时,每个擦洗单位的存储单元个数包含3或4;依次循环对所述第一擦洗部分和第二擦洗部分进行擦洗;在每轮擦洗中对未擦洗的存储单元,利用位于所述交织SRAM外围的SEC电路对每个字节内的单个错位进行纠正;其特征在于,所述擦洗方法还包含:使每个字节相邻的两个存储单元在前后两轮擦洗中。
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