[发明专利]一种防指纹薄膜的制备方法及防指纹薄膜在审
| 申请号： | 201210559311.2 | 申请日： | 2012-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN103882392A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 周维;孙永亮 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种防指纹薄膜的制备方法，在反应气氛中采用磁控溅射在基材表面形成防指纹薄膜；所述磁控溅射采用的靶材为聚四氟乙烯和氟化镁的混合物，所述反应气氛为保护气体和反应气体的混合物，所述反应气体为CF4或SiF4。本发明还提供了采用该制备方法制备得到的防指纹薄膜。本发明提供的防指纹薄膜的制备方法，采用磁控溅射的方法在触摸屏表面一次成型制备一层兼具有低表面和低折射率的氟化镁掺杂聚四氟乙烯薄膜，工艺简单；得到的防指纹薄膜，在保持结合力、耐磨性和耐腐蚀性较好的前提下具有低反射率和防手印的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 指纹 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种防指纹薄膜的制备方法，在反应气氛中采用磁控溅射在基材表面形成防指纹薄膜；其特征在于，所述磁控溅射采用的靶材为聚四氟乙烯和氟化镁的混合物，所述反应气氛为保护气体和反应气体的混合物，所述反应气体为CF4或SiF4。
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