[发明专利]一种防指纹薄膜的制备方法及防指纹薄膜在审

专利信息
申请号: 201210559311.2 申请日: 2012-12-21
公开(公告)号: CN103882392A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 周维;孙永亮 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 指纹 薄膜 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于薄膜材料制备领域,尤其涉及一种防指纹薄膜的制备方法及由该制备方法制备得到的防指纹薄膜。 

背景技术

触摸屏作为一种最新的输入技术,是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌,是极富吸引力的全新多媒体交互设备。随着电子工业的发展,触摸屏的应用越来越广泛,从最初的小屏幕手机、MP3,到现在大尺寸屏幕的电脑、ATM、医疗、工业控制设备及显示器和电视机。特别是近两年, iPhone手机和ipad电脑的推出带动了触摸屏技术的发展,这一技术也正逐渐应用到其他的便携电子产品上。触摸屏在带来方便、舒适和快捷的同时,因使用过程中手指经常触碰屏幕表面留下指纹印和油污,不易清洗,时间一长就会影响屏幕的正常使用。 

手机及其它触摸屏产品在阳光下使用过程中,看不清屏幕,导致阅读、编辑短信困难,严重的会无法拨打号码,目前通常采用提高屏幕亮度的方法来改善,但该方法效果不大,且会大大降低电池使用时间,对日常手机使用造成严重困扰。因此寻求一种制备阳光下清晰、同时兼具防指纹效果的薄膜的方法已成为当务之急。 

发明内容

本发明解决了现有技术中存在的触摸屏在使用过程中表面易粘留指纹印和油污、且在阳光下无法使用的技术问题,提供了一种防指纹薄膜的制备方法以及由该制备方法制备得到的防指纹薄膜。 

具体地,本发明的技术方案为: 

一种防指纹薄膜的制备方法,在反应气氛中采用磁控溅射在基材表面形成防指纹薄膜;所述磁控溅射采用的靶材为聚四氟乙烯和氟化镁的混合物,所述反应气氛为保护气体和反应气体的混合物,所述反应气体为CF4或SiF4

一种防指纹薄膜,所述防指纹薄膜由本发明提供的制备方法制备得到。 

本发明提供的防指纹薄膜的制备方法,采用磁控溅射的方法在触摸屏表面一次成型制备一层兼具有低表面和低折射率的氟化镁掺杂聚四氟乙烯薄膜(即本发明提供的防指纹薄膜),工艺简单。采用本发明提供的制备方法制备得到的防指纹薄膜,一方面能使屏幕表面具有较大的油接触角和低附着性,达到屏幕表面不易脏污和易清洁的效果;另一方面其低折射率可以使阳光反光率从10%降低到1%以下,提高阳光下触摸屏屏幕的清晰度;此外,本发明所制备的防指薄膜具有良好的耐摩擦性能。    

具体实施方式

本发明提供了一种防指纹薄膜的制备方法,在反应气氛中采用磁控溅射在基材表面形成防指纹薄膜;所述磁控溅射采用的靶材为聚四氟乙烯和氟化镁的混合物,所述反应气氛为保护气体和反应气体的混合物,所述反应气体为CF4或SiF4。 

本发明提供的防指纹薄膜的制备方法,采用磁控溅射的方法在触摸屏表面一次成型制备一层兼具有低表面和低折射率的氟化镁掺杂聚四氟乙烯薄膜(即本发明提供的防指纹薄膜),工艺简单。采用本发明提供的制备方法制备得到的防指纹薄膜,一方面能使屏幕表面具有较大的油接触角和低附着性,达到屏幕表面不易脏污和易清洁的效果;另一方面其低折射率可以使阳光反光率从10%降低到1%以下,提高阳光下触摸屏屏幕的清晰度;此外,本发明所制备的防指薄膜具有良好的耐摩擦性能。 

具体地,本发明中,所述靶材中聚四氟乙烯与氟化镁的摩尔比为1:(0.05~1)。优选情况下,所述靶材中聚四氟乙烯与氟化镁的摩尔比为1:(0.1~0.5)。 

本发明中,所述靶材可通过本领域技术人员制备得到,其制备方法为:将聚四氟乙烯颗粒与氟化镁颗粒按比例混合均匀,拌油熟化后装胚出胚,经烧结并车削成型,得到所述靶材。上述拌油、熟化和烧结的方法为本领域技术人员所公知,例如所述拌油的方法可以将聚四氟乙烯颗粒、氟化镁颗粒与5wt%的石墨混合均匀;所述熟化方法可以为在250℃静置30min;所述烧结方法可以为330-380℃烧结30min。 

本发明中,所述反应气氛为保护气体与反应气体的混合物,其中反应气体中的原子或分子会与靶材中的原子共同在衬底表面沉积,形成所述防指纹薄膜。所述反应气氛中,保护气体为N2或惰性气体。惰性气体即为元素周期表中零族元素对应的气体。所述反应气体为CF4或SiF4,其可提高沉积的薄膜中F的含量,从而得到高性能的薄膜。 

优选情况下,所述反应气氛中保护气体与反应气体的体积流量比为1:(0.1~1)。 

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