[发明专利]一种用于化学机械抛光设备的清洗装置在审
| 申请号： | 201210557495.9 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103878668A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 顾军;邱麟;刘波 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B55/06 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光设备的清洗装置，其特点是，包含：壳体、间隔设置在壳体上的一排多个喷头；所述喷头包含用于向晶片喷水的直喷头和用于向化学机械抛光设备顶盖内壁喷水的弯喷头；各所述喷头通过水管与外部的进水管连接。所述直喷头垂直设置在壳体上。所述弯喷头折弯成一钝角。各所述弯喷头设为出水口方向不同。本发明设置在化学机械抛光设备的各抛光台的相邻位置。本发明能够在清洗晶片的同时对化学机械抛光设备的顶盖内壁进行清洗，以使其一直保持湿润状态，抛光过程中喷溅到顶盖内壁上的研磨液不会干燥结晶，降低抛光过程中研磨液结晶掉落划伤晶片的几率，提高抛光生产的成品率，并且本发明装置结构简单，使用方便，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 设备 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械抛光设备的清洗装置，包含多个抛光台（10），抛光台（10）上方设有多个抛光头，抛光头的上方设置有顶盖，抛光台（10）的邻近位置还设置有晶片传载机构（12），各抛光头吸持晶片在抛光台上抛光，各所述抛光头可移动；其特征在于，所述该清洗装置包含：壳体（1）、间隔设置在壳体（1）上的一排多个喷头（2）；所述喷头（2）包含用于向晶片喷水的直喷头（21）和用于向化学机械抛光设备顶盖内壁喷水的弯喷头（22）；各所述喷头（2）通过水管与外部的进水管连接。
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