[发明专利]一种曝光机对位方法及控制设备有效
| 申请号： | 201210541365.6 | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103034071A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 张鹏飞;徐先华;张力舟;张磊;吴琪;贾富强;刘志 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G03F1/42 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光机对位方法，用以提高对位成功率，提高生产效率。该方法为：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。本发明同时公开了一种曝光机对位控制设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 对位 方法 控制 设备 | ||
【主权项】：
一种曝光机对位方法，其特征在于，包括：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。
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