[发明专利]一种曝光机对位方法及控制设备

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种曝光机对位方法及控制设备。

背景技术

在薄膜晶体管-液晶显示器（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD）生成过程中，需要多次使用光刻工艺。在光刻工艺中，利用具有设计图案的光罩（Mask）和紫外光对涂有光刻胶的基板进行曝光，可以将光罩上的图案投影到基板的光阻上，然后通过显影在玻璃基板上复制光罩的图案。在TFT-LCD的生成过程中，需要反复几次进行光刻才能完成薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板的制作。

在采用曝光机进行曝光之前，首先需要进行对位操作，对位精度是曝光机的重要参数之一，直接影响曝光效果。在一次曝光过程中，曝光机的主要操作为：预对位（Pre-alignment）->间距控制（Gap Control）->对位（Alignment）->曝光（Exposure）。

在现有的曝光机对位方式中，通过移动承载光罩的基台（mask stage）进行光罩上的对位标记（mask mark）和基板上的对位标记（work mark）的对准，从而实现对位。

但是，现有的对位方式中，由于受到mask stage结构空间限制等因素的影响，使得无法实现mask mark和work mark对准。其中，往往会因为对位标记超出视野范围太多导致聚焦清晰度过低（即聚焦得分值（Score）较低），使得需要进行人为判定，曝光机只能处于暂时等待状态，不能正常进行曝光。这就会影响设备的稼动率，降低生产效率。

这就需要寻求一种新的曝光机对位方法，以提高对位成功率。

发明内容

本发明提供一种曝光机对位方法及控制设备，用以提高对位成功率，提高生产效率。

本发明实施例提供的具体技术方案如下：

一种曝光机对位方法，包括：

移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；

确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。

一种曝光机对位控制设备，包括：

第一控制模块，用于控制移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；

第二控制模块，用于确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，控制移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。

基于上述技术方案，本发明实施例中，在移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作失败时，移动承载基板的基台进行基板的对位标记与光罩的对位标记的对准操作，由于承载基板的基台不受设计空间的限制，其移动幅度可以满足对位标记匹配的需要，有效避免了传统的仅移动承载光罩的基台进行对位标记对准的操作所导致的无法对准的情况，提高了对位成功率，进而提高了生产效率。

附图说明

图1为现有的对基板进行曝光的剖面结构示意图；

图2为本发明实施例中实现曝光机对位的方法流程图；

图3为本发明实施例中对work mark进行拆分的示意图；

图4a为本发明实施例中初始时监视范围内的对位标记位置示意图；

图4b为本发明实施例中移动work mark至监视范围中心的示意图；

图4c为本发明实施例中work mark与mask mark对准的示意图；

图5为本发明具体实施例中进行对位的方法流程图；

图6为本发明实施例中曝光机对位控制设备的结构示意图。

具体实施方式

为了避免传统的仅移动承载光罩的基台进行对位标记对准的操作所导致的无法对准的情况，提高对位成功率，以及提高生产效率，本发明实施例提供了一种曝光机对位方法。

下面结合附图对本发明优选的实施方式进行详细说明。

如附图1所示为对基板进行曝光的剖面结构示意图，其中，包括用于承载光罩（mask）102的基台（mask stage）101，mask102以真空吸附的方式吸附于mask stage101的下表面，以及包括承载基板（Glass）103的基台（work stage）104，Glass103放置于work stage104的上表面，还包括用于支撑Glass103的支撑脚（work pin）105，该支撑脚105上下贯穿work stage104，以支撑Glass103上下移动。