[发明专利]一种曝光机对位方法及控制设备有效
| 申请号: | 201210541365.6 | 申请日: | 2012-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN103034071A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
| 发明(设计)人: | 张鹏飞;徐先华;张力舟;张磊;吴琪;贾富强;刘志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G03F1/42 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 曝光 对位 方法 控制 设备 | ||
1.一种曝光机对位方法,其特征在于,包括:
移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作;
确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时,移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作之前,包括:
将所述基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,将所述基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记,具体包括:
以所述基板的对位标记的对称中心为坐标原点,以横坐标轴和纵坐标轴为分割线,将所述基板的对位标记划分为4个子对位标记。
4.如权利要求2或3所述的方法,其特征在于,进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,具体包括:
在视野范围内依次搜索各子对位标记,在确定搜索到至少一个所述子对位标记后,移动承载光罩的基台或承载基板的基台进行光罩的对位标记与搜索到的所述子对位标记的对准操作。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时,再次移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,直至移动光罩的对位标记达到第一设定次数为止。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时,再次移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,直至移动承载基板的基台达到第二设定次数为止。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第一设定次数为5次,所述第二设定次数为15次。
8.如权利要求4所述的方法,其特征在于,移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,具体包括:
移动承载基板的基台使基板的对位标记沿视野平面的横坐标轴方向移动预定幅度,进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作;和/或,
移动承载基板的基台使基板的对位标记沿视野平面的纵坐标轴方向移动预定幅度,进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,所述预定幅度小于等于400微米。
9.一种曝光机对位控制设备,其特征在于,包括:
第一控制模块,用于控制移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作;
第二控制模块,用于确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时,控制移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。
10.如权利要求9所述的控制设备,其特征在于,还包括预处理模块,用于将基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记。
11.如权利要求10所述的控制设备,其特征在于,所述第一控制模块或所述第二控制模块具体用于:在视野范围内依次搜索各子对位标记,在确定搜索到至少一个所述子对位标记后,控制移动承载光罩的基台或承载基板的基台进行光罩的对位标记与搜索到的所述子对位标记的对准操作。
12.如权利要求11所述的控制设备,其特征在于,所述第一控制模块具体用于:控制移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时,再次控制移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,直至控制移动承载光罩的基台达到第一设定次数为止。
13.如权利要求12所述的控制设备,其特征在于,所述第二控制模块具体用于:控制移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时,再次控制移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作,直至控制移动承载基板的基台达到第二设定次数为止。
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