[发明专利]一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法有效
| 申请号： | 201210537377.1 | 申请日： | 2012-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN103033975A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 许志军;齐勤瑞;肖洋;王恒英 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法，涉及显示技术领域，解决了现有技术中无法制作大尺寸彩膜基板的问题。一种掩膜板，包括至少一个掩膜单元组，每一个所述掩膜单元组为一排，包括位于一端的一个第一掩膜单元，位于另一端的一个第二掩膜单元，以及位于两端之间的至少一个第三掩膜单元；每一所述掩膜单元设置有掩膜图案；每一所述掩膜单元的掩膜图案在靠近其相邻的掩膜单元的一边，在掩膜图案轮廓下包括多个微小图案和空隙，且相邻的两个掩膜单元的掩膜图案在相互靠近的两边上的微小图案和空隙相吻合。本发明适用于液晶显示装置的制造领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 以及 利用 构图 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，其特征在于，包括至少一个掩膜单元组，每一个所述掩膜单元组为一排，包括位于一端的一个第一掩膜单元，位于另一端的一个第二掩膜单元，以及位于两端之间的至少一个第三掩膜单元；每一所述掩膜单元设置有掩膜图案；每一所述掩膜单元的掩膜图案在靠近其相邻的掩膜单元的一边，在掩膜图案轮廓下包括多个微小图案和空隙，且相邻的两个掩膜单元的掩膜图案在相互靠近的两边上的微小图案和空隙相吻合；所述至少一个第三掩膜单元包括：靠近所述第一掩膜单元的第一边和靠近所述第二掩膜单元的第二边，且所述第一边、第二边上的微小图案和空隙相吻合。
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