[发明专利]一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括至少一个掩膜单元组，每一个所述掩膜单元组为一排，包括位于一端的一个第一掩膜单元，位于另一端的一个第二掩膜单元，以及位于两端之间的至少一个第三掩膜单元；

每一所述掩膜单元设置有掩膜图案；每一所述掩膜单元的掩膜图案在靠近其相邻的掩膜单元的一边，在掩膜图案轮廓下包括多个微小图案和空隙，且相邻的两个掩膜单元的掩膜图案在相互靠近的两边上的微小图案和空隙相吻合；所述至少一个第三掩膜单元包括：靠近所述第一掩膜单元的第一边和靠近所述第二掩膜单元的第二边，且所述第一边、第二边上的微小图案和空隙相吻合。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，同一掩膜单元组中，第三掩膜单元的面积之和大于第一掩膜单元的面积，并大于第二掩膜单元的面积。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括两个以上掩膜单元组；

若其中一个掩膜单元组中两个掩膜单元相邻的两个顶角靠近另一个掩膜单元组，且对应所述另一个掩膜单元组中一个掩膜单元的一边，则所述其中一个掩膜单元组中两个掩膜单元相邻的两个顶角与所述另一个掩膜单元组中一个掩膜单元的一边，三者相对应部分的微小图案和空隙相吻合；或者，

若其中一个掩膜单元组中两个掩膜单元相邻的两个顶角靠近另一个掩膜单元组，且对应所述另一个掩膜单元组中两个掩膜单元相邻的两个顶角，则相对应的四个顶角的微小图案和空隙相吻合。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括两个以上掩膜单元组，且每个掩膜单元组包括的掩膜单元的个数相同。

5.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，不同掩膜单元组中的相同掩膜单元在第一方向上的长度相同，所述第一方向为与所述排平行的方向。

6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，各个所述掩膜单元为矩形，且同一掩膜单元组中，各个掩膜单元在第二方向上的宽度相同，所述第二方向为与所述排垂直的方向。

7.根据权利要求1-6任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括三个以上掩膜单元组，按照其排列顺序依次为：位于第一排的第一掩膜单元组、位于最后一排的第二掩膜单元组以及位于第一排和最后一排之间的至少一个第三掩膜单元组；

其中每一个第三掩膜单元组的掩膜单元包括：靠近第一掩膜单元组的第三边和靠近第二掩膜单元组的第四边，且所述第三边、第四边上的微小图案和空隙相吻合。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述第三掩膜单元组中第三掩膜单元的面积之和大于第一掩膜单元组中第三掩膜单元的面积之和，并大于第二掩膜单元组中第三掩膜单元的面积之和。

9.一种利用掩膜板构图的方法，其特征在于，所述掩膜板为权利要求1-8任一项所述的掩膜板，利用所述掩模板构图的方法包括：

利用所述掩膜板中任一掩膜单元组中的第一掩膜单元对形成有薄膜的基板进行一次曝光，形成与所述第一掩膜单元中的掩膜图案相应的第一图案；

按照所述掩膜单元组中掩膜单元的排列方向，利用所述掩膜单元组中的至少一个第三掩膜单元对所述形成有薄膜的基板进行至少两轮曝光，形成至少两组与所述第三掩膜单元的掩膜图案一一对应的第三图案；每两个第三图案相邻的边相吻合；

利用所述掩膜单元组中的第二掩膜单元对形成有薄膜的基板进行一次曝光，形成与所述第二掩膜单元中的掩膜图案相应的第二图案；其中，所述至少两组第三图案中位于一端的一个与所述第一图案的边相吻合，位于另一端的一个与所述第二图案相吻合。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，若所述掩模板包含至少两个掩膜单元组，则利用相邻两个掩膜单元组，在所述基板上形成的两组图案相邻的边相吻合。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，若所述掩膜板包括三个以上掩膜单元组，按照其排列顺序依次为：位于第一排的第一掩膜单元组、位于最后一排的第二掩膜单元组以及位于第一排和最后一排之间的至少一个第三掩膜单元组；则所述方法还包括：

在垂直于所述掩膜单元组中掩膜单元的排列方向上，利用所述至少一个第三掩膜单元组对所述形成有薄膜的基板进行至少两轮曝光，对应形成至少两组图案；且该至少两组图案相邻的边相吻合。