[发明专利]提高射线处理设备照射剂量均一性的方法及其设备有效
| 申请号： | 201210525572.2 | 申请日： | 2012-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN103861541A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 张阳;周汉明;许波;翟俊辉;张楠楠 | 申请（专利权）人： | 汇佳生物仪器（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/12 | 分类号： | B01J19/12;G01N1/44 |
| 代理公司： | 上海京沪专利代理事务所(普通合伙) 31235 | 代理人： | 沈美英 |
| 地址： | 200070 上海市闸北区恒丰*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种能提高射线处理设备照射剂量均一性的方法及其设备，通过在射线处理腔内增设一种具有反射射线能力较强、由低原子质量数、高密度材料制成的环形反射体，工作时照射在环形反射体上的射线发生反射后照射到射线束发射的周边原本照射剂量较弱的区域内，对该区域内的照射剂量起叠加补偿的作用，增强样品覆盖区内近周边区域的照射剂量，缩小与近中心区域照射平面内的射线照射剂量的差异,达到提高射线照射剂量均一性的目的,环形反射体设置有可供选用的低位补偿效果明显的方形环状短筒型和低中位补偿效果均明显、由中空锥形底环和方形环状短筒相连构成的方形锥底环筒型,能满足各种不同使用要求,具有很强的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 射线 处理 设备 照射 剂量 均一 方法 及其 | ||
【主权项】：
一种提高射线处理设备照射剂量均一性的方法，其特征在于通过 设置一种由具有反射射线能力较强、由低原子质量数、高密度材料制成的环形反射体，附加设置在射线处理腔的射线受照范围内非样品覆盖区的近底部侧壁位置上，当射线处理设备工作时，射线束通过球管之后同时照射在样品覆盖区和非样品覆盖区内，照射在非样品覆盖区内的部分外围射线照射在所述的环形反射体上后发生反射、照射到射线束发射的周边原本照射剂量较弱的区域内，对该区域内的照射剂量起叠加补偿的作用，从而增强样品覆盖区内近周边区域的照射剂量，缩小与近中心区域照射平面内的射线照射剂量的差异，实现本发明的提高射线照射剂量均一性的目的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于汇佳生物仪器（上海）有限公司，未经汇佳生物仪器（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210525572.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
