[发明专利]提高射线处理设备照射剂量均一性的方法及其设备

权利要求书

1.一种提高射线处理设备照射剂量均一性的方法，其特征在于通过  设置一种由具有反射射线能力较强、由低原子质量数、高密度材料制成的环形反射体，附加设置在射线处理腔的射线受照范围内非样品覆盖区的近底部侧壁位置上，当射线处理设备工作时，射线束通过球管之后同时照射在样品覆盖区和非样品覆盖区内，照射在非样品覆盖区内的部分外围射线照射在所述的环形反射体上后发生反射、照射到射线束发射的周边原本照射剂量较弱的区域内，对该区域内的照射剂量起叠加补偿的作用，从而增强样品覆盖区内近周边区域的照射剂量，缩小与近中心区域照射平面内的射线照射剂量的差异，实现本发明的提高射线照射剂量均一性的目的。

2.一种提高射线处理设备照射剂量均一性的设备，主体为由外层铅板 (1)和内层耐辐射塑胶隔板(2)构成的射线处理腔体，腔体本身为长方体或正方体，上部顶板上设置有专用的射线入射孔(3)，射线球管(4)相应地固定设置在上部顶板的外侧面上，其特征在于在射线处理腔体的近底部内表侧面 (5)上设置有一圈由低原子质量数、高密度材料高温烧结制成、主体呈方形环筒状、具有较强射线反射能力的反射体(6)，其中：

(a)所述的低原子质量数、高密度材料由以碳化硼化合物为主料、碳和硼为辅料三者共混构成的高硼碳配比材料充任，三者的重量配比为：碳化硼90%-95%、碳1%-2%、硼4%-8%；

(b)所述的反射体(6)根据受照样品的物理特性设置为低位补偿效果明显、由方形环状短筒(7)构成的方形环状短筒型反射体(8),或低中位补偿效果均明显、由中空倾斜状锥形底环(9)和方形环状短筒 (7)相连构成的方形锥底环筒型反射体(10)；

(c)所述的方形环状短筒(7)的外形尺寸与腔体内层耐辐射塑胶隔板(2)的内表侧面 (5)匹配嵌装相符;

(d)工作时，所述的反射体 (6)根据被处理样品的高度选用方形环状短筒型反射体(8)或方形锥底环筒状射线反射体(10),设置在被处理样品的外围非样品覆盖区的腔体近底部内表侧面(5)的射线照射区内，射线束通过球管(4)之后同时照射在样品覆盖区和非样品覆盖区内，照射在非样品覆盖区内的部分外围射线照射在所述的反射体(6)上后发生反射、照射到射线束周边原本外围射线强度较低的区域，对该区域内的照射剂量起叠加补偿的作用，从而增强样品覆盖区内近周边区域的照射剂量，缩小与近中心区域照射平面内的射线照射剂量的差异，实现提高射线处理设备腔体内射线照射剂量的均一性和被照射样品的处理质量。