[发明专利]刻蚀设备工艺气体供气装置无效
| 申请号： | 201210487876.4 | 申请日： | 2012-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN103839746A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 王健;郑玮斌 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种刻蚀设备工艺气体供气装置，包括：工艺腔，用于在其内容纳工艺气体并进行刻蚀反应；主供气管路，用于往工艺腔内输送主工艺气体，进行刻蚀反应；多条气体管道，用于输送不同种类的工艺气体；另外还包括辅助供气管路，用于往工艺腔内输送辅助工艺气体，控制和调节工艺腔内中心和边缘不同部位工艺气体浓度。本发明能方便的通过调节反应腔内中心和边缘的刻蚀气体浓度(比例)来实现调节刻蚀面内均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 设备 工艺 气体 供气 装置 | ||
【主权项】：
一种刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，包括：工艺腔，用于在其内容纳工艺气体并进行刻蚀反应；主供气管路，用于往工艺腔内输送主工艺气体，用于刻蚀反应；多条气体管道，用于输送不同种类的工艺气体；辅助供气管路，用于往工艺腔内输送辅助工艺气体，用于控制和调节工艺腔内中心和边缘的一种或多种工艺气体浓度。
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