[发明专利]刻蚀设备工艺气体供气装置无效
| 申请号： | 201210487876.4 | 申请日： | 2012-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN103839746A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 王健;郑玮斌 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀 设备 工艺 气体 供气 装置 | ||
1.一种刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，包括：
工艺腔，用于在其内容纳工艺气体并进行刻蚀反应；
主供气管路，用于往工艺腔内输送主工艺气体，用于刻蚀反应；
多条气体管道，用于输送不同种类的工艺气体；
辅助供气管路，用于往工艺腔内输送辅助工艺气体，用于控制和调节工艺腔内中心和边缘的一种或多种工艺气体浓度。
2.如权利要求1所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，所述主供气管路包括第一气体过滤器及第一终端气动阀。
3.如权利要求1所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，所述辅助供气管路包括第二气体过滤器及第二终端气动阀。
4.如权利要求2所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，所述辅助供气管路还包括第一支路气动阀及第二支路气动阀。
5.如权利要求1所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，所述工艺腔在顶部中心设置有一小孔，顶部周边设置有多个等距分布的小孔，用于通入工艺气体。
6.如权利要求5所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，所述辅助工艺气体，只从所述工艺腔的中心通入、只从所述工艺腔的边缘通入或者从所述工艺腔的中心及边缘同时通入。
7.如权利要求1所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，其特征在于，所述主供气管路及所述辅助供气管路使用相同的所述气体管道。
8.如权利要求1所述的刻蚀设备工艺气体供气装置，其特征在于，其特征在于，所述主供气管路及所述辅助供气管路使用不同的所述气体管道。
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