[发明专利]一种主动矩阵式平面显示装置、薄膜晶体管及其制作方法在审
申请号: | 201210413187.9 | 申请日: | 2012-10-25 |
公开(公告)号: | CN102931091A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 江政隆;陈柏林 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L21/28;H01L29/786;H01L29/417;G09F9/33 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种主动矩阵式平面显示装置、薄膜晶体管及其制作方法,该制作方法包括:在栅极上设置第一绝缘层;在第一绝缘层上依次层叠设置氧化物半导体层和缓冲层;在氧化物半导体层和缓冲层上设置源极和漏极;对与源极和漏极未直接接触的缓冲层进行含氧气氛的电浆处理或热处理,使与源极和漏极未直接接触的缓冲层的含氧量高于与源极和漏极直接接触的缓冲层的含氧量。通过以上方式,本发明可防止后续的制程对氧化物半导体层的损坏,从而保证薄膜晶体管的稳定性,并保证主动矩阵式平面显示装置的显示品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 主动 矩阵 平面 显示装置 薄膜晶体管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括以下步骤:在基底上设置栅极;在所述栅极上设置第一绝缘层;在所述第一绝缘层上依次层叠设置氧化物半导体层和缓冲层,其中,所述缓冲层由透明导电氧化物构成;在所述氧化物半导体层和所述缓冲层上分别设置源极和漏极;对与所述源极和漏极未直接接触的所述缓冲层进行含氧气氛的电浆处理或热处理,使与所述源极和漏极未直接接触的所述缓冲层的含氧量高于与所述源极和漏极直接接触的所述缓冲层的含氧量。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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