[发明专利]光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用有效
| 申请号： | 201210371644.2 | 申请日： | 2012-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102880017A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 刘陆;吕志军;栗首 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李中奎 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用。所述组合物的主要组分及其质量份数为：a组分0.3-5份，b组分2-15份，c组分0.05-5份，d组分2-15份；所述a组分为含氟的羧酸或其盐，所述b组分为烷醇胺类或季胺氢氧化物中的至少一种碱性化合物，所述c组分为含硫防腐蚀剂，所述d组分为极性有机溶剂。本发明的剥离液组合物能很好的剥离光刻胶，而且，对金属布线有良好的防腐蚀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
一种光刻胶用剥离液组合物，其特征在于，所述组合物的主要组分及其质量份数如下：a组分0.3‑5份，b组分2‑15份，c组分0.05‑5份，d组分2‑15份；所述a组分为含氟的羧酸或其盐，所述b组分为烷醇胺类或季胺氢氧化物中的至少一种碱性化合物，所述c组分为含硫防腐蚀剂，所述d组分为极性有机溶剂。
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