[发明专利]透明电极制作方法、掩膜板以及设备有效
| 申请号： | 201210363684.2 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN102866544A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 陈政鸿;王醉 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种透明电极制作方法、掩膜板以及设备。所述方法包括如下步骤：在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻；透过掩膜板对光阻进行曝光，其中，掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成至少第一区域及第二区域两个区域，第一区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第一间距，第二区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第二间距，并且，第一间距大于相应的预定间距，第一间距与相应的预定间距之间的差大于第二间距与相应的预定间距之间的差；对曝光后的玻璃基板进行显影、刻蚀以在玻璃基板上形成透明电极。通过上述方式，本发明能够使得成型后的整个显示区域的透明电极的间距误差减少，从而提高显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 电极 制作方法 掩膜板 以及 设备 | ||
【主权项】：
一种透明电极制作方法，其特征在于，包括如下步骤：在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻；透过掩膜板对所述光阻进行曝光，其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成至少第一区域及第二区域两个区域，所述第一区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第一间距，所述第二区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第二间距，并且，第一间距大于相应的预定间距，第一间距与相应的预定间距之间的差大于第二间距与相应的预定间距之间的差；对曝光后的所述玻璃基板进行显影、刻蚀以在所述玻璃基板上形成透明电极。
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