[发明专利]透明电极制作方法、掩膜板以及设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种透明电极制作方法、掩膜板以及设备。

背景技术

现今，液晶显示器的基板的透明电极的制作工艺，是先在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻，然后，透过掩膜板对光阻进行曝光。由于掩膜板的遮挡作用，掩膜板的图案所对应的部分将不会被曝光，在随后的显影过程中，被曝光的光阻将被显影液清洗掉，而在刻蚀过程中，有光阻保护的薄膜将保留下来，形成透明电极的图案。

但是，参阅图1，在基板中，透明电极主要分布在显示区域110（AA，Active Area），因而，显示区域110所需保留的薄膜多于非显示区域120所需保留的薄膜。因此，在显影过程中，非显示区域120的显影液消耗得比显示区域110多，使得非显示区域120的显影液的浓度低于显示区域110的显影液的浓度。而且，经过扩散作用（如图中箭头所示低浓度扩散方向），使得与非显示区域120相接的显示区域110的边缘区域的显影液的浓度低于远离非显示区域120的显示区域110的中心区域的显影液的浓度，从而导致边缘区域的光阻图形的间距小于中心区域的光阻图形的间距。同样的情况也发生在刻蚀过程中，从而导致显示区域110的边缘区域的透明电极与显示区域110的中心区域的透明电极的间距大小不一，进而影响显示效果。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种透明电极制作方法、掩膜板以及设备，能够使得成型后的整个显示区域的透明电极的间距误差减少，从而提高显示效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种透明电极制作方法，包括如下步骤：在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻；透过掩膜板对所述光阻进行曝光，其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成至少第一区域及第二区域两个区域，所述第一区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第一间距，所述第二区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第二间距，并且，第一间距大于相应的预定间距，第一间距与相应的预定间距之间的差大于第二间距与相应的预定间距之间的差；对曝光后的所述玻璃基板进行显影、刻蚀以在所述玻璃基板上形成透明电极。

其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成所述第一区域、所述第二区域以及第三区域，所述第三区域设置于所述第一区域与所述第二区域之间，并且，所述第三区域中透明电极所对应的图形的间距为第一间距或第二间距，并且从外至内第一间距所占的比例逐渐减少而第二间距所占的比例逐渐增大。

其中，所述第一区域、所述第二区域以及所述第三区域为长宽比一样的矩形区域。

其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成所述第一区域、所述第二区域以及第三区域，所述第三区域设置于所述第一区域与所述第二区域之间，并且，从外至内所述第三区域中透明电极所对应的图形的间距逐渐减小。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种掩膜板，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成至少第一区域及第二区域两个区域，所述第一区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第一间距，所述第二区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第二间距，并且，第一间距大于相应的预定间距，第一间距与相应的预定间距之间的差大于第二间距与相应的预定间距之间的差。

其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成所述第一区域、所述第二区域以及第三区域，所述第三区域设置于所述第一区域与所述第二区域之间，并且，所述第三区域中透明电极所对应的图形的间距为第一间距或第二间距，并且从外至内第一间距所占的比例逐渐减少而第二间距所占的比例逐渐增大。

其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成所述第一区域、所述第二区域以及第三区域，所述第三区域设置于所述第一区域与所述第二区域之间，并且，从外至内所述第三区域中透明电极所对应的图形的间距逐渐减小。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种透明电极制作设备，包括：显影光源以及掩膜板，所述显影光源产生显影光线透过所述掩膜板，其中，所述掩膜板在对应液晶面板的显示区域部分从外至内分成至少第一区域及第二区域两个区域，所述第一区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第一间距，所述第二区域中透明电极所对应的图形的间距设置为第二间距，并且，第一间距大于相应的预定间距，第一间距与相应的预定间距之间的差大于第二间距与相应的预定间距之间的差。