[发明专利]镀膜方法及其镀膜装置有效
| 申请号： | 201210353668.5 | 申请日： | 2012-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102899632A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 唐健;范宾;三浦俊彦;渡边优;黄志飞 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/58 | 分类号： | C23C14/58;C23C14/48 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 关于在离子辅助方式的镀膜方法中，通过离子辅助难于提高形成的薄膜的致密化效果。在镀膜腔室１０中设置固定基板的基板支架２０，使镀膜材料在基板上沉积，在基板上形成镀膜材料的薄膜；进一步,使用具有浓度梯度的离子照射基板支架２０的整个区域，离子照射薄膜,对薄膜进行致密化。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种镀膜方法，其特征在于，在镀膜腔室中设置有固定基板的基板支架，所述镀膜材料在基板上沉积，在基板上形薄膜的镀膜工序；具有浓度梯度的离子全面照射所述基板支架的整个区域，所述薄膜被离子照射使薄膜致密化的照射工序。
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