[发明专利]镀膜方法及其镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜，特别是一种通过离子辅助方式进行镀膜的镀膜方法及其镀膜装置。

背景技术

物理蒸镀法作为形成无机膜和有机膜的方法被广泛应用。

物理蒸镀法根据镀膜方法的不同，大致分为真空蒸镀法、溅射法、和离子电镀方法。

在上述的真空蒸镀法或是溅射法等物理方法中,离子辅助的镀膜方法已被知晓。

在真空镀膜腔室内，镀膜材料在基板表面上沉积进行镀膜时，通过离子照射镀膜材料的蒸汽及沉积在基板上形成的薄膜，对所形成的薄膜的致密性等的改善工艺过程称之为离子辅助蒸镀。

例如，对应于伞状的基板支架，蒸汽和离子对整个基板支架进行照射的镀膜装置。

例如：在专利文献１（参见特开平１０－１２３３０１号公报）中，公示了使用离子辅助方式的镀膜方法生产光学产品。

 还有，例如，在专利文献２（参见特开２００７－２４８８２８号公报）中，公示了使用离子辅助方式的镀膜方法制备光学薄膜。

还有，例如，在专利文献３（参见特开２０１０－１０６３３９号公报）中，公示了离子辅助方式的镀膜方法。

 还有，例如，在专利文献４（参见特开平２００３－８２４６２号公报）中，公示了使用离子辅助方式的镀膜方法的真空镀膜装置。

发明内容

【本发明要解决的课题】

本发明要解决的课题是：使用离子辅助方式的镀膜方法时，通过离子辅助难于提高形成的薄膜的致密化效果。

【本发明解决课题的方法】

一种镀膜方法，在镀膜腔室中设有固定基板的基板支架；使镀膜材料在基板上沉积，在所述基板上形成所述镀膜材料的薄膜,这样的镀膜工序；相对所述基板支架区域，用具有浓度梯度的离子向整个基板支架区域进行照射，在所述膜上照射离子，对所述膜进行致密化的照射工序。

所述本发明的镀膜方法，其特征在于，在镀膜腔室中设有固定基板的基板支架；使镀膜材料在基板上沉积，在基板上形成镀膜材料的薄膜，进而，相对基板支架的区域用具有浓度梯度的离子向整个基板支架的区域进行照射，在膜上照射离子对膜进行致密化。

所述发明的镀膜方法，其特征在于，对所述基板支架的部分区域照射高浓度离子，对所述基板支架的其余区域照射低浓度离子。

 所述发明的镀膜方法，其特征在于，在所述离子照射工序上，使所述基板边进行转动边进行照射，实现所述基板交替地通过高浓度离子区域和低浓度离子区域。

所述发明的镀膜方法，其特征在于，在所述离子照射工序上，使所述基板边转动边照射，实现所述基板以一定的周期交替地通过高浓度离子区域和低浓度离子区域。

所述发明的镀膜方法，其特征在于，在所述照射工序中，通过驱动基板支架使基板进行转动。

所述发明的镀膜方法，其特征在于，在所述镀膜工序中,使镀膜速度按照所述的一定的周期性变化进行镀膜。

所述发明的镀膜方法，其特征在于，使所述基板边转动边进行镀膜，实现所述镀膜工序中在所述镀膜速度最大的位置上，离子照射工序中离子照射量最大。 

所述发明的镀膜方法，其特征在于，使所述基板边转动边进行镀膜，实现所述镀膜工序中在所述镀膜速度最大的位置上，离子照射工序中离子照射量最小。

所述发明的镀膜方法，其特征在于，在所述基板支架上固定多片基板，进行所述镀膜工序和所述离子照射工序。

【本发明的技术效果】

通过本发明的镀膜方法，相对基板支架区域，用具有浓度梯度的离子全面照射基板支架区域，通过离子照射膜，对膜进行致密化，因此通过离子辅助方式可以提高所形的薄膜的致密化效果。

附图说明

图1是本发明第一实施例的镀膜装置的结构示意图。

图2是本发明第一实施例的镀膜装置的俯视布置示意图。

图3是本发明第二实施例的镀膜装置的俯视布置示意图。

图４是本发明第一实施例中，镀膜速度和离子照射量相对于基板位置的变化示意图。

图５是本发明第二实施例中，镀膜速度和离子照射量相对于基板位置的变化示意图。

图中：

10…镀膜腔室

11…排气管

12…真空泵

20…基板支架

30…第一蒸发源

31…第一遮挡板

32…离子源

33…离子源遮挡板

34…第二蒸发源

35…第二遮挡板。

具体实施方式

下面参照附图对本发明镀膜方法的实施方案进行说明。